| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 石墨烯基本性质 | 第9-10页 |
| 1.2 石墨烯的制备 | 第10-12页 |
| 1.3 石墨烯的化学修饰 | 第12-18页 |
| 1.4 石墨烯的拉曼表征 | 第18-20页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 单层石墨烯的生长和转移 | 第22-31页 |
| 2.1 铜箔上单层石墨烯的生长 | 第22-28页 |
| 2.1.1 CH_4/H_2比例对石墨烯生长影响 | 第24-25页 |
| 2.1.2 生长温度对石墨烯生长的影响 | 第25-28页 |
| 2.2 石墨烯的转移 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 单层石墨烯热化学修饰 | 第31-41页 |
| 3.1 石墨烯的化学修饰和拉曼光谱 | 第31-33页 |
| 3.2 单层石墨烯的热化学反应温度依赖 | 第33-34页 |
| 3.3 单层石墨烯的热化学反应时间曲线 | 第34-39页 |
| 3.4 O_2和 H_2O 对反应的淬灭 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 石墨烯的图案化修饰 | 第41-50页 |
| 4.1 纯 PDMS 模板制备 | 第41-42页 |
| 4.2 基于纯 PDMS 模板的石墨烯图案化 | 第42-45页 |
| 4.3 硬基底 PDMS 模板制备 | 第45-47页 |
| 4.4 基于硬基底 PDMS 模板的石墨烯图案化修饰 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55页 |