摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第一章 引言 | 第7-11页 |
1.1 碳纳米管概述 | 第7-8页 |
1.2 碳纳米管的传统制备方法 | 第8-9页 |
1.2.1 电弧蒸发法 | 第8页 |
1.2.2 激光蒸发法 | 第8页 |
1.2.3 化学气相沉积法 | 第8-9页 |
1.3 碳纳米管的性能与应用前景 | 第9页 |
1.3.1 碳纳米管的性能 | 第9页 |
1.3.2 碳纳米管的应用前景 | 第9页 |
1.4 本文的主要研究内容及研究意义 | 第9-11页 |
第二章 碳纳米管的制备流程及表征 | 第11-14页 |
2.1 制备流程 | 第11-13页 |
2.1.1 抛光 | 第11页 |
2.1.2 样品的清洗及保存 | 第11页 |
2.1.3 催化剂及过渡层的制备 | 第11-12页 |
2.1.4 CVD 法制备碳纳米管 | 第12-13页 |
2.2 CVD 法制备碳纳米管的机制 | 第13页 |
2.3 有关本实验的测试仪器 | 第13-14页 |
第三章 碳纳米管的拉曼光谱介绍 | 第14-19页 |
3.1 拉曼光谱介绍 | 第14-15页 |
3.1.1 拉曼光谱概念 | 第14页 |
3.1.2 拉曼光谱的基本原理 | 第14-15页 |
3.2 碳纳米管的拉曼光谱 | 第15-16页 |
3.2.1 径向呼吸模 | 第15-16页 |
3.2.2 拉曼 G 模 | 第16页 |
3.2.3 拉曼 D 模和 G′模 | 第16页 |
3.3 碳纳米管的拉曼光谱相关研究进展 | 第16-18页 |
3.4 碳纳米管结合拉曼光谱的应用及前景 | 第18-19页 |
第四章 硅衬底的碳纳米管制备 | 第19-27页 |
4.1 本章实验概述 | 第19页 |
4.2 硅衬底生长碳纳米管 | 第19-26页 |
4.2.1 生长过程中碳源气体和氢气的影响 | 第19-21页 |
4.2.2 氨气的刻蚀对生长碳纳米管及拉曼光谱的影响 | 第21-26页 |
4.3 本章实验小结 | 第26-27页 |
第五章 金属衬底上生长碳纳米管的研究 | 第27-48页 |
5.1 本章实验概述 | 第27页 |
5.2 304 不锈钢衬底上碳纳米管的制备 | 第27-35页 |
5.2.1 304 不锈钢衬底的无过渡层情况 | 第27-29页 |
5.2.2 过渡层对钢衬底生长碳纳米管的影响 | 第29-35页 |
5.3 铜衬底上的的碳纳米管制备 | 第35-43页 |
5.3.1 铜衬底的无过渡层情况 | 第35-37页 |
5.3.2 过渡层对铜衬底生长碳纳米管的影响 | 第37-43页 |
5.4 本章实验小结 | 第43-44页 |
5.5 近期金属衬底生长碳纳米管方面进展 | 第44-48页 |
第六章 总结与展望 | 第48-50页 |
6.1 实验成果总结 | 第48页 |
6.2 展望 | 第48-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-57页 |