| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 纳米材料的性质 | 第9-10页 |
| 1.1.1 量子尺寸效应 | 第9页 |
| 1.1.2 小尺寸效应 | 第9-10页 |
| 1.1.3 表面效应 | 第10页 |
| 1.1.4 宏观量子隧道效应 | 第10页 |
| 1.2 纳米氧化物的特性和应用 | 第10-11页 |
| 1.3 氧化铟的晶体结构及应用 | 第11-12页 |
| 1.4 氧化铟纳米材料的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.4.1 化学气相沉积法（CVD） | 第12页 |
| 1.4.2 水热法 | 第12页 |
| 1.4.3 溶胶凝胶法 | 第12-13页 |
| 1.4.4 模板法 | 第13页 |
| 1.4.5 溅射法 | 第13页 |
| 1.5 氧化铟纳米材料的研究现状 | 第13-19页 |
| 1.6 氧化铟纳米材料的发光特性存在的问题 | 第19页 |
| 1.7 本课题研究的主要内容和目的 | 第19-20页 |
| 第二章 实验设备与表征手段 | 第20-24页 |
| 2.1 CVD法制备纳米材料的设备介绍 | 第20页 |
| 2.2 样品的表征手段 | 第20-24页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第21-22页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第22-23页 |
| 2.2.5 紫外-可见吸收光谱(UV) | 第23-24页 |
| 第三章 氧化铟纳米材料的制备与表征分析 | 第24-44页 |
| 3.1 氧化铟纳米材料的制备 | 第24-26页 |
| 3.1.1 实验材料以及主要仪器 | 第24页 |
| 3.1.2 实验步骤 | 第24-25页 |
| 3.1.3 CVD法制备氧化铟纳米材料的反应机理 | 第25-26页 |
| 3.2 影响氧化铟纳米材料生长的因素 | 第26-36页 |
| 3.2.1 Au催化剂对氧化铟纳米材料生长的影响 | 第26-32页 |
| 3.2.2 温度对氧化铟纳米线生长的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.3 气流量对氧化铟纳米线生长的影响 | 第34-36页 |
| 3.3 不同形貌氧化铟纳米材料的XRD的对比与分析 | 第36-37页 |
| 3.3.1 不同形貌的氧化铟的XRD分析 | 第36-37页 |
| 3.4 不同形貌的氧化铟纳米材料的EDS能谱的对比与分析 | 第37-39页 |
| 3.5 氧化铟纳米线的TEM分析 | 第39-40页 |
| 3.6 Cu掺杂氧化铟纳米线的表征 | 第40-43页 |
| 3.6.1 Cu掺杂氧化铟纳米线的SEM形貌分析 | 第40-41页 |
| 3.6.2 Cu掺杂氧化铟纳米线的XRD图 | 第41-42页 |
| 3.6.3 Cu掺杂氧化铟纳米线的X射线光电子能谱以及俄歇能谱 | 第42-43页 |
| 3.7 本章总结 | 第43-44页 |
| 第四章 氧化铟纳米结构的光致发光性能研究 | 第44-51页 |
| 4.1 不同制备方式氧化铟纳米结构的光致发光性能研究 | 第45-47页 |
| 4.1.1 氧化铟纳米颗粒的光致发光性能 | 第45-46页 |
| 4.1.2 不使用催化剂生长的氧化铟纳米线的光致发光特性 | 第46页 |
| 4.1.3 使用催化剂生长的氧化铟纳米线的光致发光特性 | 第46-47页 |
| 4.2 掺Cu的氧化铟纳米线的光致发光特性 | 第47-48页 |
| 4.2.1 掺Cu的氧化铟纳米线的光致发光特性 | 第47-48页 |
| 4.3 氧空位对氧化铟纳米材料的光致发光影响 | 第48页 |
| 4.4 氧化退火后掺Cu的氧化铟纳米线的紫外发光吸收光谱 | 第48-49页 |
| 4.5 本章总结 | 第49-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 5.1 总结 | 第51页 |
| 5.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
