摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-13页 |
1.1 自旋电子学 | 第10页 |
1.2 稀磁半导体 | 第10-11页 |
1.3 二氧化锡简介 | 第11页 |
1.4 选题思路 | 第11-13页 |
第2章 基本理论 | 第13-29页 |
2.1 第一性原理计算 | 第13页 |
2.2 Hartree-Fock(哈特利-福克近似) | 第13-15页 |
2.3 密度泛函理论(DFT) | 第15-21页 |
2.3.1 Hohenberg-Kohn 定理 | 第16-18页 |
2.3.2 Kohn-Sham 方程 | 第18-19页 |
2.3.3 局域密度近似(LDA) | 第19-20页 |
2.3.4 广义梯度近似(GGA) | 第20-21页 |
2.4 几种常用的能带计算方法 | 第21-26页 |
2.4.1 缀加平面波法(APW) | 第22-23页 |
2.4.2 正交化平面波法 | 第23-25页 |
2.4.3 赝势方法 | 第25-26页 |
2.5 自洽-迭代计算方法 | 第26-27页 |
2.6 VASP 程序包简介 | 第27-29页 |
第3章 Li 掺杂 SnO_2体系 d~0磁性的研究 | 第29-55页 |
3.1 模型构建和计算方法 | 第29-30页 |
3.1.1 模型构建 | 第29-30页 |
3.1.2 计算方法 | 第30页 |
3.2 Li 掺杂 SnO_2体系 d~0磁性的研究 | 第30-55页 |
3.2.1 缺陷形成能(Ef) | 第30-32页 |
3.2.2 Li 掺杂 SnO_2的计算结果与分析 | 第32-40页 |
3.2.3 含有氧空位的 Li 掺杂 SnO_2的计算结果与分析 | 第40-52页 |
3.2.4 Li 掺杂 SnO_2的形成能 | 第52-53页 |
3.2.5 Li 掺杂 SnO_2的晶格常数 | 第53页 |
3.2.6 不同掺杂浓度的 Li 掺杂 SnO_2的磁性 | 第53-54页 |
3.2.7 掺杂浓度为 8.33%的 Li 掺杂 SnO_2的磁性 | 第54-55页 |
第4章 结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-62页 |
致谢 | 第62页 |