| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 氧化镓材料简介 | 第10-18页 |
| 1.2.1 晶体结构 | 第10-13页 |
| 1.2.2 基本性质 | 第13-14页 |
| 1.2.3 应用前景 | 第14-18页 |
| 1.3 Mg掺杂氧化镓薄膜研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 研究内容及结构安排 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-26页 |
| 第二章 氧化稼薄膜的制备方法及分析手段 | 第26-37页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 薄膜样品的制备方法 | 第26-31页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积法 | 第26-27页 |
| 2.2.2 分子束外延法 | 第27-28页 |
| 2.2.3 激光分子束外延法 | 第28-29页 |
| 2.2.4 磁控溅射法 | 第29-30页 |
| 2.2.5 金属有机化学气相沉积法 | 第30-31页 |
| 2.3 薄膜样品的表征手段 | 第31-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第33-34页 |
| 2.3.4 紫外-可见吸收光谱分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 X射线能量色散谱分析 | 第35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 Mg掺杂Ga_2O_3多层结构薄膜的制备及性能研究 | 第37-49页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 薄膜样品的制备 | 第37-40页 |
| 3.2.1 前期准备 | 第37-38页 |
| 3.2.2 沉积过程 | 第38-40页 |
| 3.3 薄膜的基本性能 | 第40-46页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第40-42页 |
| 3.3.2 XPS分析 | 第42-44页 |
| 3.3.3 UV Vis分析 | 第44-45页 |
| 3.3.4 SEM分析 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 Ga_2O_3/MgO/Ga_2O_3异质结薄膜的制备及性能研究 | 第49-55页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 制备方法 | 第49-50页 |
| 4.2.1 薄膜的生长 | 第49-50页 |
| 4.2.2 电极的制备 | 第50页 |
| 4.3 性能表征 | 第50-53页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第50-51页 |
| 4.3.2 UV-Vis分析 | 第51页 |
| 4.3.3 光电性能 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 总结 | 第55页 |
| 5.2 展望 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第59页 |