| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 纳米材料概述 | 第10-11页 |
| 1.2 掠角沉积法的原理及应用 | 第11-16页 |
| 1.3 纳米TiO_2材料概述 | 第16-22页 |
| 1.3.1 光催化原理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 纳米TiO_2的光催化理论 | 第17-18页 |
| 1.3.3 TiO_2薄膜光催化剂优点 | 第18-19页 |
| 1.3.4 TiO_2薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| 1.3.5 TiO_2薄膜的光催化性能 | 第20-22页 |
| 1.4 本论文的研究目的及研究内容 | 第22-23页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第22页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-28页 |
| 2.1 基底清洗 | 第23页 |
| 2.2 基底修饰 | 第23-24页 |
| 2.3 磁控溅射实验 | 第24-27页 |
| 2.3.1 纳米团簇的制备 | 第24-25页 |
| 2.3.2 磁控溅射的工作原理 | 第25-27页 |
| 2.4 掠角沉积的角度调控 | 第27-28页 |
| 第三章 金属纳米团簇的制备及粒径控制研究 | 第28-37页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 Cu纳米团簇的粒径调节 | 第29-36页 |
| 3.2.1 溅射电流对Cu纳米团簇粒径的影响 | 第30-32页 |
| 3.2.2 氩气流量对Cu纳米团簇粒径的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.3 结露区长度对Cu纳米团簇粒径的影响 | 第34-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 TiO_2纳米柱阵列结构的制备及光催化性能 | 第37-49页 |
| 4.1 引言 | 第37-38页 |
| 4.2 TiO_2纳米柱阵列结构的制备 | 第38-39页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第39-48页 |
| 4.3.1 形貌分析 | 第39-41页 |
| 4.3.2 晶体结构分析 | 第41-42页 |
| 4.3.3 UV-Vis吸收光谱分析 | 第42-44页 |
| 4.3.4 光催化性能测试与分析 | 第44-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 掺杂CuO纳米团簇的TiO_2纳米柱阵列结构的制备及光催化性能 | 第49-65页 |
| 5.1 引言 | 第49-50页 |
| 5.2 TiO_2纳米柱阵列结构的制备 | 第50-51页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第51-63页 |
| 5.3.1 形貌分析 | 第51-54页 |
| 5.3.2 晶体结构分析 | 第54-57页 |
| 5.3.3 UV-vis吸收光谱分析 | 第57-59页 |
| 5.3.4 光催化性能测试与分析 | 第59-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 总结与创新点 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-80页 |
| 攻读硕士学位期间的科研成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |