水力造粒—微滤组合工艺处理模拟含锶放射性废水
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 放射性废水处理概述 | 第10-11页 |
1.1.1 放射性废水的分类 | 第10-11页 |
1.1.2 放射性废水的排放标准 | 第11页 |
1.1.3 本文选择的研究对象 | 第11页 |
1.2 含锶放射性废水处理的国内外研究进展 | 第11-20页 |
1.2.1 含锶放射性废水处理的传统方法 | 第12-16页 |
1.2.2 含锶放射性废水处理新技术 | 第16-18页 |
1.2.3 造粒法除锶的研究进展 | 第18-20页 |
1.2.4 小结 | 第20页 |
1.3 课题研究背景及内容 | 第20-22页 |
1.3.1 课题研究背景 | 第20-21页 |
1.3.2 课题研究内容 | 第21-22页 |
第二章 试验装置与分析方法 | 第22-32页 |
2.1 水力造粒-微滤组合工艺试验仪器及设备 | 第22-25页 |
2.2 试验方法 | 第25-27页 |
2.3 试验工艺参数及测定方法 | 第27-29页 |
2.3.1 六联搅拌造粒的 G 值与 GT 值 | 第27-28页 |
2.3.2 水力停留时间与膜比通量 | 第28-29页 |
2.3.3 去污因数与沉淀浓缩倍数 | 第29页 |
2.4 试验材料与分析方法 | 第29-32页 |
第三章 水力造粒-微滤组合工艺晶种制备试验 | 第32-44页 |
3.1 引言 | 第32-33页 |
3.2 原水水质与分析方法 | 第33-34页 |
3.2.1 原水水质 | 第33页 |
3.2.2 试验方法 | 第33-34页 |
3.3 造粒试验结果与讨论 | 第34-37页 |
3.3.1 浊度与硬度的去除 | 第34-35页 |
3.3.2 钙镁离子的去除效果 | 第35页 |
3.3.3 上清液 pH 的变化规律 | 第35-36页 |
3.3.4 晶种颗粒分析 | 第36-37页 |
3.4 造粒条件改善试验结果与讨论 | 第37-43页 |
3.4.1 浊度的变化 | 第38-39页 |
3.4.2 硬度的变化 | 第39-40页 |
3.4.3 颗粒尺寸的变化 | 第40-42页 |
3.4.4 最优造粒条件的确定 | 第42-43页 |
3.5 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 水力造粒-微滤组合工艺除锶小试试验 | 第44-70页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 试验材料与方法 | 第44-46页 |
4.2.1 原水水质 | 第44页 |
4.2.2 试验方法 | 第44-46页 |
4.3 水力停留时间对除锶效果的影响 | 第46-51页 |
4.3.1 浓缩倍数的比较 | 第46-47页 |
4.3.2 锶的去除效果 | 第47-48页 |
4.3.3 出水浊度与硬度 | 第48-49页 |
4.3.4 固体悬浮物的变化情况 | 第49-50页 |
4.3.5 膜比通量变化 | 第50-51页 |
4.4 晶种投加量对除锶效果的影响 | 第51-58页 |
4.4.1 浓缩倍数的比较 | 第51-52页 |
4.4.2 锶离子的去除效果 | 第52-53页 |
4.4.3 出水浊度与硬度 | 第53-54页 |
4.4.4 固体悬浮物的变化情况 | 第54-55页 |
4.4.5 膜比通量变化 | 第55-56页 |
4.4.6 试验沉淀分析 | 第56-58页 |
4.5 膜污染对除锶效果的影响 | 第58-59页 |
4.5.1 膜污染的影响因素 | 第58页 |
4.5.2 去污因数的变化 | 第58-59页 |
4.6 温度对除锶效果的影响 | 第59-61页 |
4.6.1 工艺的浓缩倍数 | 第59-60页 |
4.6.2 锶与钙镁的处理效果 | 第60-61页 |
4.6.3 造粒沉淀 | 第61页 |
4.7 水力造粒除锶机理 | 第61-66页 |
4.7.1 沉淀颗粒形貌与成份分析 | 第61-62页 |
4.7.2 碳酸钙晶型研究试验结果和讨论 | 第62-66页 |
4.8 工艺运行状况试验结果和分析 | 第66-68页 |
4.8.1 泵的稳定性对工艺的影响 | 第66-67页 |
4.8.2 膜组件的稳定性对工艺的影响 | 第67页 |
4.8.3 工艺的处理成本 | 第67-68页 |
4.9 本章小结 | 第68-70页 |
第五章 结论与展望 | 第70-73页 |
5.1 结论 | 第70-71页 |
5.1.1 晶种制备试验结论 | 第70页 |
5.1.2 除锶小试试验结论 | 第70-71页 |
5.2 展望 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
致谢 | 第79页 |