| 中文摘要 | 第10-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第一章 文献综述与选题背景 | 第14-28页 |
| 1.1 纳米材料概述 | 第14页 |
| 1.2 氧化锡纳米材料 | 第14-17页 |
| 1.2.1 氧化锡晶体的结构特征 | 第14-15页 |
| 1.2.2 氧化锡的应用 | 第15-17页 |
| 1.3 纳米材料的制备 | 第17页 |
| 1.4 非水解溶胶-凝胶法的基本类型 | 第17-21页 |
| 1.4.1 卤代烷消除反应 | 第19页 |
| 1.4.2 酯消除反应 | 第19-20页 |
| 1.4.3 醚消除反应 | 第20页 |
| 1.4.4 热分解反应 | 第20-21页 |
| 1.4.5 酰胺消除反应 | 第21页 |
| 1.5 非水解溶胶-凝胶法的特点 | 第21-24页 |
| 1.5.1 反应介质 | 第21页 |
| 1.5.2 表面性质 | 第21页 |
| 1.5.3 反应动力学 | 第21-22页 |
| 1.5.4 结构与形貌控制 | 第22页 |
| 1.5.5 织构特性控制 | 第22-24页 |
| 1.6 非水解溶胶-凝胶法在多相催化领域的应用 | 第24-25页 |
| 1.7 选题依据及主要研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-32页 |
| 2.1 实验用主要试剂与仪器 | 第28页 |
| 2.2 表征方法 | 第28-30页 |
| 2.2.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第28页 |
| 2.2.2 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第28-29页 |
| 2.2.3 N_2物理吸附 | 第29页 |
| 2.2.4 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis) | 第29页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜(TEM) | 第29页 |
| 2.2.6 扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
| 2.2.7 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第29-30页 |
| 2.3 催化四氢呋喃聚合反应活性评价 | 第30页 |
| 2.3.1 THF聚合产物收率 | 第30页 |
| 2.3.2 THF聚合产物分子量 | 第30页 |
| 2.4 CO催化氧化反应性能评价 | 第30-32页 |
| 第三章 卤代烷消除路线制备锡硅纳米复合氧化物 | 第32-54页 |
| 3.1 引言 | 第32-33页 |
| 3.2 制备流程图 | 第33页 |
| 3.3 材料制备 | 第33-34页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第34-48页 |
| 3.4.1 不同后处理方式对材料性质的影响 | 第34-40页 |
| 3.4.2 前驱体浓度对材料性质的影响 | 第40-45页 |
| 3.4.3 反应时间对材料性质的影响 | 第45-48页 |
| 3.5 催化四氢呋喃聚合活性评价 | 第48-50页 |
| 3.5.1 不同干凝胶的活性评价 | 第49-50页 |
| 3.5.2 反应时间对聚合反应的影响 | 第50页 |
| 3.6 CO催化氧化反应性能评价 | 第50-52页 |
| 3.7 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 无溶剂条件下卤代烷消除路线制备锡硅复合氧化物 | 第54-64页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 制备流程图 | 第54-55页 |
| 4.3 材料制备 | 第55页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第55-61页 |
| 4.4.1 FT-IR | 第55-56页 |
| 4.4.2 XRD | 第56-58页 |
| 4.4.3 TEM和SEM | 第58-59页 |
| 4.4.4 氮物理吸附 | 第59-60页 |
| 4.4.5 UV-Vis | 第60-61页 |
| 4.5 催化四氢呋喃聚合活性评价 | 第61-62页 |
| 4.6 CO催化氧化反应性能评价 | 第62页 |
| 4.7 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 论文总结 | 第64页 |
| 5.2 论文创新之处 | 第64-65页 |
| 5.3 后续工作设想 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 个人简况及联系方式 | 第77-79页 |