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磷硅化合物合成、晶体生长及性能表征

摘要第10-12页
ABSTRACT第12-13页
第一章 绪论第14-29页
    1.1 磷硅化合物的合成方法第14-18页
        1.1.1 固相合成第14-16页
        1.1.2 助熔剂法第16-18页
        1.1.3 气相输运法第18页
    1.2 晶体生长方法第18-22页
        1.2.1 坩埚下降法第18-20页
        1.2.2 提拉法第20-21页
        1.2.3 区熔-移动加热器法第21页
        1.2.4 泡生法第21-22页
    1.3 磷硅化合物的研究进展第22-24页
        1.3.1 CdSiP_2究进展第22-23页
        1.3.2 FeSi_4P_4化合物的研究进展第23页
        1.3.3 NdSiP_3和NdSi_2P_6化合物研究进展第23-24页
    1.4 本论文的研究内容第24-25页
    参考文献第25-29页
第二章 CdSiP_2多晶料合成和晶体生长第29-38页
    2.1 引言第29页
    2.2 CdSiP_2多晶料合成第29-35页
        2.2.1 合成炉及温场第29-31页
        2.2.2 原料性质第31页
        2.2.3 CdSiP_2多晶料反应过程研究第31页
        2.2.4 反应产物的X射线衍射分析(XRD)第31-33页
        2.2.5 合成过程讨论第33页
        2.2.6 CdSiP_2多晶料合成第33-35页
        2.2.7 CdSiP_2多晶料合成工艺第35页
    2.3 CdSiP_2晶体生长第35-37页
        2.3.1 引言第35页
        2.3.2 垂直布里奇曼法生长CdSiP_2单晶第35-37页
    2.4 本章小结第37-38页
第三章 FeSi_4P_4多晶料合成和晶体生长第38-67页
    3.1 引言第38页
    3.2 FeSi_4P_4(FSP)多晶料合成第38-41页
        3.2.1 FeSi_4P_4多晶料合成的方法第38页
        3.2.2 FeSi_4P_4多晶料合成结果第38-40页
        3.2.3 FeSi_4P_4多晶料合成结果讨论第40-41页
    3.3 FeSi_4P_4晶体生长第41-47页
        3.3.1 FeSi_4P_4晶体生长过程研究第41-42页
        3.3.2 缓冷法生长FeSi_4P_4晶体第42-44页
        3.3.3 坩埚倒转法生长FeSi_4P_4晶体第44-45页
        3.3.4 坩埚倒转法+重结晶法生长FeSi_4P_4晶体第45页
        3.3.5 FeSi_4P_4晶体生长讨论第45-46页
        3.3.6 X射线粉末衍射分析(XRD)第46-47页
    3.4 FeSi_4P_4晶体基本性质测试第47-66页
        3.4.1 FeSi_4P_4晶体结构解析第47-52页
        3.4.2 FeSi_4P_4晶体处理第52-53页
        3.4.3 X射线荧光(XRF)测试第53-54页
        3.4.4 X射线光电子能谱(XPS)第54-56页
        3.4.5 FeSi_4P_4化合物磁性分析第56-58页
        3.4.6 FeSi_4P_4晶体XRD摇摆曲线第58-60页
        3.4.7 FeSi_4P_4化合物的DSC/TGA第60-61页
        3.4.8 FeSi_4P_4晶体热膨胀第61-62页
        3.4.9 FeSi_4P_4晶体的热导率第62-64页
        3.4.10 FeSi_4P_4化合物拉曼光谱测试第64-66页
    参考文献第66-67页
第四章 NdSiP_3和NdSi_2P_6晶体生长第67-93页
    4.1 引言第67页
    4.2 NdSiP_3和NdSi_2P_6晶体生长第67-68页
    4.3 NdSi_2P_6单晶解析第68-83页
    4.4 NdSiP_3单晶解析第83-91页
    4.5 本章小结第91-92页
    参考文献第92-93页
第五章 结论及有待开展的工作第93-95页
    5.1 结论第93-94页
    5.2 有待进一步开展的工作第94-95页
致谢第95-97页
学位论文评阅及答辩情况表第97页

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