| 摘要 | 第5-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第15-39页 |
| 1.1 负折射现象及研究意义 | 第15-25页 |
| 1.1.1 负折射现象 | 第17-18页 |
| 1.1.2 负折射材料的特性 | 第18-22页 |
| 1.1.3 负折射材料的研究意义 | 第22-25页 |
| 1.2 实现负折射的几种材料 | 第25-36页 |
| 1.2.1 双负材料 | 第25-29页 |
| 1.2.2 单负材料 | 第29-35页 |
| 1.2.3 其他材料 | 第35-36页 |
| 1.3 负折射材料的研究进展及存在的问题 | 第36-37页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第37-39页 |
| 第2章 全角度可见光负折射的材料结构设计与优化 | 第39-67页 |
| 2.1 引言 | 第39页 |
| 2.2 全角度可见光负折射材料的结构要求 | 第39-45页 |
| 2.2.1 可见光小角度向列相液晶负折射材料 | 第40-43页 |
| 2.2.2 全角度负折射双曲材料 | 第43-45页 |
| 2.3 双曲型负材料实现折射理论 | 第45-49页 |
| 2.4 双曲型材料的结构计算 | 第49-51页 |
| 2.5 负折射材料的结构优化 | 第51-64页 |
| 2.5.1 银纳米线阵列实现负折射的波长限制 | 第52-57页 |
| 2.5.2 银纳米线阵列双曲型材料负折射实现的损耗 | 第57-62页 |
| 2.5.3 优化参数的负折射结构模拟验证 | 第62-64页 |
| 2.6 小结 | 第64-67页 |
| 第3章 银纳米线阵列的制备及负折射实验验证 | 第67-95页 |
| 3.1 引言 | 第67页 |
| 3.2 银纳米线阵列的一般制备方法 | 第67-70页 |
| 3.3 反六角溶致液晶模板 | 第70-77页 |
| 3.3.1 溶致液晶及其各种相态 | 第70-75页 |
| 3.3.2 反六角溶致液晶相态及其自组装特性 | 第75页 |
| 3.3.3 反六角溶致液晶模板的制备方法 | 第75-77页 |
| 3.4 银纳米线阵列的制备 | 第77-83页 |
| 3.4.1 反六角溶致液晶模板的制备 | 第77-79页 |
| 3.4.2 银纳米线阵列电化学生长条件的控制 | 第79-82页 |
| 3.4.3 银纳米线阵列样品的清洁处理 | 第82-83页 |
| 3.5 银纳米线阵列的表征 | 第83-86页 |
| 3.5.1 扫描电镜三维形貌表征 | 第83-85页 |
| 3.5.2 能谱元素表征 | 第85-86页 |
| 3.6 负折射材料的一般验证手段 | 第86-87页 |
| 3.7 银纳米线阵列的验证 | 第87-93页 |
| 3.7.1 负折射光学验证理论 | 第87-89页 |
| 3.7.2 验证光路设计与实验 | 第89-91页 |
| 3.7.3 实验结果的数据处理及分析 | 第91-93页 |
| 3.8 小结 | 第93-95页 |
| 第4章 液晶可调控负折射的研究 | 第95-113页 |
| 4.1 引言 | 第95页 |
| 4.2 负折射介质调控理论 | 第95-96页 |
| 4.3 负折射调控介质的选取 | 第96-99页 |
| 4.4 液晶调控负折射的模拟仿真 | 第99-105页 |
| 4.5 液晶调控范围与其 Δn的关系 | 第105-111页 |
| 4.6 小结 | 第111-113页 |
| 第5章 结论与展望 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-125页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第125-127页 |
| 指导教师及作者简介 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |