| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 5-HMF催化氧化制DFF的研究进展 | 第10-16页 |
| 1.2.1 DFF的应用和合成 | 第11-12页 |
| 1.2.2 传统氧化剂催化体系 | 第12页 |
| 1.2.3 绿色氧化剂催化体系 | 第12-16页 |
| 1.2.3.1 贵金属催化剂催化体系 | 第13-14页 |
| 1.2.3.2 金属氧化物催化体系 | 第14-16页 |
| 1.3 光催化技术概述 | 第16-20页 |
| 1.3.1 光催化技术的原理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 光催化技术在选择性氧化方面的应用 | 第17-20页 |
| 1.3.2.1 烃类选择性氧化 | 第17-18页 |
| 1.3.2.2 醇类选择性氧化 | 第18-20页 |
| 1.4 g-C_3N_4材料的研究进展 | 第20-25页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4的合成方法 | 第20-22页 |
| 1.4.1.1 固相合成法 | 第20-21页 |
| 1.4.1.2 溶剂热合成法 | 第21页 |
| 1.4.1.3 热缩聚合成法 | 第21-22页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4的应用 | 第22-25页 |
| 1.4.2.1 在降解污染物中的应用 | 第22-23页 |
| 1.4.2.2 在光解水制氢中的应用 | 第23页 |
| 1.4.2.3 在光催化还原中的应用 | 第23-24页 |
| 1.4.2.4 在光催化氧化中的应用 | 第24-25页 |
| 1.5 本论文的研究意义和研究内容 | 第25-27页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第25页 |
| 1.5.2 研究思路 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-33页 |
| 2.1 催化剂的制备 | 第27-28页 |
| 2.1.1 实验试剂与规格 | 第27页 |
| 2.1.2 主要仪器与型号 | 第27-28页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第28-29页 |
| 2.2.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第28页 |
| 2.2.2 N_2吸脱附 | 第28页 |
| 2.2.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第28-29页 |
| 2.2.4 紫外-可见漫反射(UV-vis DRS) | 第29页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜(TEM) | 第29页 |
| 2.2.6 荧光光谱(PL) | 第29页 |
| 2.2.7 X-射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
| 2.3 催化剂的活性评价 | 第29-30页 |
| 2.3.1 催化剂光催化氧化反应 | 第29-30页 |
| 2.3.2 活性物种捕捉测试 | 第30页 |
| 2.4 数据的分析与处理方法 | 第30-33页 |
| 2.4.1 5-HMF和DFF的定性分析 | 第30页 |
| 2.4.2 5-HMF和DFF的定量分析 | 第30-32页 |
| 2.4.3 5-HMF和DFF的产率计算 | 第32-33页 |
| 第三章 可见光下g-C_3N_4选择性氧化5-HMF制DFF的研究 | 第33-48页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验部分 | 第34页 |
| 3.2.1 催化剂g-C_3N_4的制备 | 第34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-47页 |
| 3.3.1 催化剂g-C_3N_4的表征 | 第34-40页 |
| 3.3.1.1 TEM表征 | 第34-35页 |
| 3.3.1.2 N_2吸脱附表征 | 第35-36页 |
| 3.3.1.3 FT-IR表征 | 第36页 |
| 3.3.1.4 XRD表征 | 第36-37页 |
| 3.3.1.5 XPS表征 | 第37-38页 |
| 3.3.1.6 UV-vis表征 | 第38-39页 |
| 3.3.1.7 PL表征 | 第39-40页 |
| 3.3.2 催化活性 | 第40-47页 |
| 3.3.2.1 入射光对反应性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2.2 催化剂用量对反应性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2.3 反应时间对反应性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.2.4 反应溶剂对反应性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.2.5 不同反应气氛对反应性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.2.6 g-C_3N_4光催化剂稳定性实验 | 第45页 |
| 3.3.2.7 g-C_3N_4光催化剂的作用机理 | 第45-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 可见光下VO@g-C_3N_4选择性催化氧化5-HMF制DFF的研究 | 第48-62页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49页 |
| 4.2.1 光催化剂VO@g-C_3N_44的制备 | 第49页 |
| 4.2.1.1 g-C_3N_4的制备 | 第49页 |
| 4.2.1.2 VO@g-C_3N_4的制备 | 第49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-60页 |
| 4.3.1 催化剂g-C_3N_4的表征 | 第49-55页 |
| 4.3.1.1 FT-IR表征 | 第49-50页 |
| 4.3.1.2 XPS表征 | 第50-52页 |
| 4.3.1.3 UV-vis表征 | 第52页 |
| 4.3.1.4 PL表征 | 第52-55页 |
| 4.3.2 催化活性 | 第55-60页 |
| 4.3.2.1 催化剂的选择 | 第55-56页 |
| 4.3.2.2 反应时间对反应性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.3.2.3 溶剂对反应性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.2.4 气体流速对反应性能的影响 | 第58页 |
| 4.3.2.5 消除剂对反应性能的影响 | 第58-59页 |
| 4.3.2.6 催化剂的稳定性实验 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-76页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
