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离焦飞秒激光在硅上烧蚀的研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-15页
    1.1 超短脉冲激光的发展史第8-9页
    1.2 激光的基本原理第9-11页
    1.3 飞秒激光与物质的相互作用第11-14页
    1.4 本文研究的主要内容和意义第14-15页
2 飞秒激光硅上烧蚀的研究第15-23页
    2.1 飞秒激光加工系统第15-18页
        2.1.1 飞秒激光第15页
        2.1.2 激光系统第15-16页
        2.1.3 物镜第16页
        2.1.4 CCD观测系统第16-17页
        2.1.5 实验光路第17-18页
    2.2 硅表面烧蚀阈值测量第18-23页
3 飞秒激光硅上线加工的研究第23-34页
    3.1 激光功率的影响第23-25页
    3.2 激光频率的影响第25-26页
    3.3 参数优化第26-27页
    3.4 氢氟酸腐蚀的作用第27-28页
    3.5 飞秒激光离焦划线第28-34页
        3.5.1 飞秒激光离焦白线形貌第28-29页
        3.5.2 飞秒激光离焦白线的构成第29-32页
        3.5.3 飞秒激光离焦加工第32-34页
4 飞秒激光诱导硅表面同心环结构研究第34-52页
    4.1 同心环的形成第34-39页
        4.1.1 牛顿干涉成环第34-36页
        4.1.2 自相位调制成环第36-37页
        4.1.3 表面冲击波成环第37-38页
        4.1.4 激光自聚焦及散焦成环第38-39页
        4.1.5 光学元器件引入产生的环型结构第39页
    4.2 Ⅰ型飞秒激光诱导同心环第39-43页
    4.3 Ⅱ型飞秒激光诱导同心环第43-48页
    4.4 浸油环境下飞秒激光诱导同心环第48-52页
5 总结与展望第52-54页
致谢第54-55页
参考文献第55-62页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第62页

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