| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·MNZN 铁氧体薄膜国内外研究现状 | 第11-16页 |
| ·MnZn 铁氧体薄膜制备技术发展 | 第11-15页 |
| ·MnZn 铁氧体薄膜性能研究现状 | 第15-16页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第16-17页 |
| ·选题意义 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第17页 |
| ·论文结构 | 第17-19页 |
| 第二章 实验设备及仪器 | 第19-27页 |
| ·氧化物陶瓷工艺 | 第19页 |
| ·射频磁控溅射沉积薄膜 | 第19-21页 |
| ·辉光放电 | 第19-20页 |
| ·射频磁控溅射的特点 | 第20-21页 |
| ·测试与表征 | 第21-27页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第21-23页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第23-24页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第25页 |
| ·振动样品磁强计（VSM） | 第25-27页 |
| 第三章 MNZN 铁氧体靶材制备工艺及性能研究 | 第27-36页 |
| ·MNZN 铁氧体靶材制备工艺 | 第27-29页 |
| ·MnZn 铁氧体靶材制备技术路线 | 第27页 |
| ·配料 | 第27页 |
| ·一次球磨 | 第27页 |
| ·预烧 | 第27-28页 |
| ·二次球磨 | 第28页 |
| ·造粒与成型 | 第28页 |
| ·烧结 | 第28-29页 |
| ·MN 含量对MNZN 铁氧体靶材性能的影响 | 第29-36页 |
| ·概述 | 第29-30页 |
| ·Mn 含量对MnZn 铁氧体物物相和微观结构的影响 | 第30-31页 |
| ·Mn 含量对MnZn 铁氧体靶材密度的影响 | 第31-32页 |
| ·Mn 含量对MnZn 铁氧体靶材磁性能的影响 | 第32-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第四章 MNZN 铁氧体薄膜工艺技术研究 | 第36-55页 |
| ·MNZN 铁氧体薄膜的制备 | 第36-38页 |
| ·薄膜生长 | 第36-37页 |
| ·影响薄膜性能的主要因素 | 第37-38页 |
| ·溅射气压对薄膜性能的探讨 | 第38-42页 |
| ·概述 | 第38页 |
| ·薄膜厚度随溅射气压的变化 | 第38-39页 |
| ·薄膜物相结构随溅射气压的变化 | 第39-40页 |
| ·薄膜微观结构随溅射气压的变化 | 第40页 |
| ·薄膜磁性能随溅射气压的变化 | 第40-42页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的探讨 | 第42-45页 |
| ·概述 | 第42页 |
| ·薄膜厚度随溅射功率的变化 | 第42-43页 |
| ·薄膜物相结构随溅射功率的变化 | 第43-44页 |
| ·薄膜微观形貌随溅射功率的变化 | 第44页 |
| ·薄膜磁性能随溅射功率的变化 | 第44-45页 |
| ·基片温度对薄膜性能的探讨 | 第45-48页 |
| ·概述 | 第45-46页 |
| ·薄膜物相结构随基片温度的变化 | 第46页 |
| ·薄膜微观形貌随基片温度的变化 | 第46-47页 |
| ·薄膜磁性能随基片温度的变化 | 第47-48页 |
| ·基片种类对薄膜性能的探讨 | 第48-51页 |
| ·概述 | 第48页 |
| ·薄膜物相结构随基片种类的变化 | 第48-50页 |
| ·薄膜微观形貌随基片种类的变化 | 第50-51页 |
| ·薄膜磁性能随基片种类的变化 | 第51页 |
| ·溅射气氛对薄膜性能的探讨 | 第51-54页 |
| ·概述 | 第51页 |
| ·薄膜厚度随溅射气氛的变化 | 第51-52页 |
| ·薄膜物相结构随溅射气氛的变化 | 第52页 |
| ·薄膜微观形貌随溅射气氛的变化 | 第52-53页 |
| ·薄膜磁性能随溅射气氛的变化 | 第53-54页 |
| ·制备工艺小结 | 第54-55页 |
| 第五章 薄膜晶化工艺探讨 | 第55-68页 |
| ·薄膜晶化的意义 | 第55页 |
| ·退火工艺设定 | 第55-56页 |
| ·常压钟罩炉退火研究 | 第56-62页 |
| ·概述 | 第56页 |
| ·常压退火工艺曲线设定 | 第56-57页 |
| ·退火工艺对薄膜物相结构的影响 | 第57页 |
| ·退火工艺对薄膜磁性能的影响 | 第57-58页 |
| ·氮气保护工艺曲线设定 | 第58页 |
| ·氮气保护退火工艺对薄膜磁性能的影响 | 第58-59页 |
| ·氮气保护退火工艺对薄膜元素价态的影响 | 第59-61页 |
| ·常压钟罩炉退火小结 | 第61-62页 |
| ·真空炉退火研究 | 第62-65页 |
| ·退火曲线设定 | 第62页 |
| ·真空退火对薄膜物相结构的影响 | 第62-63页 |
| ·退火前后薄膜的微观形貌 | 第63-64页 |
| ·真空退火对薄膜磁性能的影响 | 第64页 |
| ·真空炉退火小结 | 第64页 |
| ·退火工艺研究展望 | 第64-65页 |
| ·晶化动力学 | 第65-68页 |
| ·概述 | 第65页 |
| ·实验与计算 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第六章 基于ZNFe_2O_4铁氧体缓冲层的研究 | 第68-78页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·ZNFe_2O_4 铁氧体缓冲层的制备 | 第68-71页 |
| ·概述 | 第68页 |
| ·退火条件对ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层物相结构的影响 | 第68-70页 |
| ·退火温度对ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层物相结构的影响 | 第70-71页 |
| ·ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层制备小结 | 第71页 |
| ·不同厚度的ZNFe_2O_4 缓冲层对薄膜的影响 | 第71-74页 |
| ·概述 | 第71页 |
| ·不同厚度的ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层对薄膜物相结构的影响 | 第71-72页 |
| ·不同厚度的ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层对薄膜物微观形貌的影响 | 第72-73页 |
| ·不同厚度的ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层对薄膜磁性能的影响 | 第73-74页 |
| ·小结 | 第74页 |
| ·真空退火对ZNFe_2O_4 缓冲层上MNZN 薄膜的影响 | 第74-78页 |
| ·退火工艺设定 | 第74页 |
| ·真空退火对ZnFe_2O_4 缓冲层上MnZn 薄膜物相结构的影响 | 第74-75页 |
| ·真空退火对ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层上MnZn 薄膜微观的影响 | 第75-76页 |
| ·真空退火对ZnFe_2O_4 铁氧体缓冲层上MnZn 薄膜磁性能的影响 | 第76-77页 |
| ·小结 | 第77-78页 |
| 第七章 结论 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第83-84页 |
