| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 前言 | 第11-25页 |
| 1.1 二氧化锡的概况及研究背景 | 第11-20页 |
| 1.1.1 二氧化锡概况 | 第11-12页 |
| 1.1.2 二氧化锡的研究背景 | 第12-20页 |
| 1.2 高压电学与结构研究 | 第20-23页 |
| 1.2.1 高压物理学发展简介 | 第20-21页 |
| 1.2.2 高压电学发展概述 | 第21-22页 |
| 1.2.3 高压同步辐射 X 光衍射发展概述 | 第22-23页 |
| 1.3 论文的选题目的和意义 | 第23-24页 |
| 1.4 本论文各部分的主要内容 | 第24-25页 |
| 第二章 高压实验技术与理论研究方法 | 第25-42页 |
| 2.1 高压实验装置 | 第25-28页 |
| 2.1.1 金刚石对顶砧 | 第25-26页 |
| 2.1.2 密封垫的选择 | 第26-27页 |
| 2.1.3 传压介质的选择 | 第27页 |
| 2.1.4 压力标定 | 第27-28页 |
| 2.2 测量微电路在金刚石对顶砧上集成 | 第28-33页 |
| 2.2.1 两电极制备 | 第28-32页 |
| 2.2.2 四电极的制备 | 第32-33页 |
| 2.3 高压原位电学测量方法 | 第33-38页 |
| 2.3.1 高压下原位电阻率的测量 | 第33-34页 |
| 2.3.2 交流阻抗谱测量 | 第34-38页 |
| 2.4 高压同步辐射衍射 | 第38页 |
| 2.5 理论研究的基础和方法 | 第38-42页 |
| 2.5.1 第一性原理计算 | 第38-40页 |
| 2.5.2 密度泛函理论 | 第40页 |
| 2.5.3 VASP 软件介绍 | 第40-42页 |
| 第三章 高压下 SnO_2的电输运性质及结构相变研究 | 第42-53页 |
| 3.1 SnO_2的 XRD 的表征及扫描电镜图 | 第42-43页 |
| 3.1.1 样品 SnO_2的 XRD 的表征 | 第42-43页 |
| 3.1.2 样品 SnO_2的电子扫描电镜图 | 第43页 |
| 3.2 高压下 SnO_2的同步辐射 X 射线衍射研究 | 第43-47页 |
| 3.3 高压下 SnO_2的电阻率研究 | 第47-48页 |
| 3.4 高压下 SnO_2的交流阻抗谱研究 | 第48-52页 |
| 3.4.1 交流阻抗谱的解析方法 | 第48-49页 |
| 3.4.2 高压下 SnO_2的交流阻抗谱测量 | 第49-52页 |
| 3.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 SnO_2的理论研究 | 第53-60页 |
| 4.1 SnO_2的理论模型 | 第53-55页 |
| 4.2 SnO_2的能带结构计算 | 第55-57页 |
| 4.3 SnO_2的电子态密度计算 | 第57-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 作者简介 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |