摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-16页 |
1.1 磁性材料的发展史 | 第9页 |
1.2 稀土合金磁性薄膜的研究进展 | 第9-13页 |
1.2.1 磁控溅射 | 第9-10页 |
1.2.2 真空蒸镀 | 第10页 |
1.2.3 离子镀 | 第10页 |
1.2.4 化学气相沉积 | 第10页 |
1.2.5 电沉积 | 第10-13页 |
1.3 电镀技术 | 第13-14页 |
1.3.1 电镀的定义 | 第13页 |
1.3.2 金属电沉积的条件 | 第13页 |
1.3.3 合金共沉积 | 第13-14页 |
1.4 超声化学 | 第14-15页 |
1.5 本论文的立题依据及研究内容 | 第15-16页 |
1.5.1 本论文的立题依据 | 第15页 |
1.5.2 本论文的研究内容 | 第15-16页 |
第二章 实验药品、仪器及表征方法 | 第16-19页 |
2.1 实验试剂 | 第16-17页 |
2.2 实验仪器 | 第17页 |
2.3 表征方法 | 第17-19页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第17页 |
2.3.2 场发射扫描电镜(FE-SEM)及X-射线能量散射谱(EDS)分析 | 第17页 |
2.3.3 电化学分析 | 第17页 |
2.3.4 磁性(VSM)分析 | 第17-18页 |
2.3.5 基体结合力分析 | 第18-19页 |
第三章 水溶液电沉积制备NdFeB薄膜 | 第19-31页 |
3.1 引言 | 第19页 |
3.2 NdFeB 薄膜制备流程 | 第19-21页 |
3.2.1 电沉积流程 | 第19-20页 |
3.2.2 NdFeB薄膜制备流程 | 第20页 |
3.2.3 NdFeB薄膜镀液组成设计 | 第20-21页 |
3.2.4 电镀后处理 | 第21页 |
3.3 电沉积制备NdFeB薄膜的实验设计 | 第21-23页 |
3.4 结果与讨论 | 第23-30页 |
3.4.1 NdFeB镀液循环伏安分析 | 第23页 |
3.4.2 NdFeB薄膜形貌及成分分析 | 第23-24页 |
3.4.3 NdFeB薄膜磁性能分析 | 第24-25页 |
3.4.4 NdFeB薄膜Tafel分析 | 第25-26页 |
3.4.5 NdFeB薄膜电化学阻抗分析 | 第26-29页 |
3.4.6 NdFeB薄膜镀层结合力分析 | 第29-30页 |
3.5 本章小结 | 第30-31页 |
第四章 超声氛围下水溶液电沉积NdFeB薄膜 | 第31-47页 |
4.1 引言 | 第31页 |
4.2 NdFeB薄膜制备流程 | 第31-33页 |
4.2.1 电沉积流程 | 第31-32页 |
4.2.2 NdFeB 薄膜制备流程 | 第32页 |
4.2.3 NdFeB薄膜镀液组成设计 | 第32-33页 |
4.2.4 电镀后处理 | 第33页 |
4.3 超声氛围下NdFeB薄膜性能分析 | 第33-42页 |
4.3.1 NH4Cl的浓度对超声氛围下制备NdFeB薄膜影响 | 第33-34页 |
4.3.2 pH值对超声氛围下制备NdFeB薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
4.3.3 电沉积时间对超声氛围下制备NdFeB薄膜性能的影响 | 第38-39页 |
4.3.4 电流密度对超声氛围下制备NdFeB薄膜性能的影响 | 第39-41页 |
4.3.5 超声频率对超声氛围下制备NdFeB薄膜性能的影响 | 第41-42页 |
4.4 NdFeB薄膜其他性能分析 | 第42-46页 |
4.4.1 超声氛围下制得的NdFeB薄膜基体结合力分析 | 第42-43页 |
4.4.2 超声氛围下制得的NdFeB薄膜EIS分析 | 第43-45页 |
4.4.3 超声氛围下制得的NdFeB薄膜VSM分析 | 第45-46页 |
4.5 本章小结 | 第46-47页 |
结论 | 第47-48页 |
致谢 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-52页 |
附录 | 第52页 |