摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第14-32页 |
1.1 引言 | 第14页 |
1.2 氧还原反应的概述 | 第14-20页 |
1.2.1 氧还原反应的应用 | 第14-17页 |
1.2.2 氧还原反应的机理 | 第17-19页 |
1.2.3 氧还原反应存在的问题及发展前景 | 第19-20页 |
1.3 氧还原催化剂的研究进展 | 第20-24页 |
1.3.1 贵金属及其合金 | 第20-21页 |
1.3.2 碳材料 | 第21-22页 |
1.3.3 有机大分子材料 | 第22-23页 |
1.3.4 金属化合物材料 | 第23-24页 |
1.4 二氧化锰纳米材料介绍 | 第24-31页 |
1.4.1 二氧化锰的结构特征 | 第25-26页 |
1.4.2 二氧化锰的制备方法 | 第26-28页 |
1.4.3 二氧化锰的掺杂 | 第28-29页 |
1.4.4 二氧化锰在氧还原反应上的应用 | 第29-31页 |
1.5 本论文的选题意义以及研究内容 | 第31-32页 |
第二章 实验部分 | 第32-36页 |
2.1 实验试剂和仪器 | 第32-33页 |
2.1.1 实验试剂 | 第32页 |
2.1.2 实验仪器 | 第32-33页 |
2.2 样品表征方法 | 第33-34页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第33页 |
2.2.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第33页 |
2.2.3 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP) | 第33-34页 |
2.2.4 程序升温脱附(O_2-TPD)分析 | 第34页 |
2.2.5 比表面积(BET)和孔径分布(BJH)分析 | 第34页 |
2.3 二氧化锰的氧还原电化学性能测试 | 第34-36页 |
2.3.1 循环伏安测试(CV) | 第35页 |
2.3.2 极化曲线测试(LSV) | 第35页 |
2.3.3 Koutcky-Levich方程运算(K-L曲线) | 第35-36页 |
第三章 V掺杂二氧化锰的一步合成及其氧还原催化性能研究 | 第36-52页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 实验内容 | 第36-37页 |
3.3 结果与讨论 | 第37-50页 |
3.3.1 晶相结构分析 | 第37-38页 |
3.3.2 FESEM分析 | 第38-39页 |
3.3.3 程序升温脱附O_2-TPD分析 | 第39-40页 |
3.3.4 电感耦合等离子体原子发射光谱ICP | 第40-41页 |
3.3.5 比表面积分析 | 第41-43页 |
3.3.6 氧还原性能分析 | 第43-49页 |
3.3.7 催化机理分析 | 第49-50页 |
3.4 本章小结 | 第50-52页 |
第四章 低价金属离子掺杂二氧化锰的一步合成及其氧还原催化性能研究 | 第52-66页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 实验部分 | 第52-53页 |
4.3 结果与讨论 | 第53-65页 |
4.3.1 晶相结构分析 | 第53-54页 |
4.3.2 FESEM分析 | 第54-55页 |
4.3.3 程序升温脱附O_2-TPD分析 | 第55-56页 |
4.3.4 比表面积分析 | 第56-57页 |
4.3.5 氧还原性能分析 | 第57-64页 |
4.3.6 催化机理分析 | 第64-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-66页 |
结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |