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过渡金属掺杂的二氧化锰合成及其氧还原催化性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-7页
第一章 绪论第14-32页
    1.1 引言第14页
    1.2 氧还原反应的概述第14-20页
        1.2.1 氧还原反应的应用第14-17页
        1.2.2 氧还原反应的机理第17-19页
        1.2.3 氧还原反应存在的问题及发展前景第19-20页
    1.3 氧还原催化剂的研究进展第20-24页
        1.3.1 贵金属及其合金第20-21页
        1.3.2 碳材料第21-22页
        1.3.3 有机大分子材料第22-23页
        1.3.4 金属化合物材料第23-24页
    1.4 二氧化锰纳米材料介绍第24-31页
        1.4.1 二氧化锰的结构特征第25-26页
        1.4.2 二氧化锰的制备方法第26-28页
        1.4.3 二氧化锰的掺杂第28-29页
        1.4.4 二氧化锰在氧还原反应上的应用第29-31页
    1.5 本论文的选题意义以及研究内容第31-32页
第二章 实验部分第32-36页
    2.1 实验试剂和仪器第32-33页
        2.1.1 实验试剂第32页
        2.1.2 实验仪器第32-33页
    2.2 样品表征方法第33-34页
        2.2.1 X射线衍射(XRD)分析第33页
        2.2.2 扫描电镜(SEM)分析第33页
        2.2.3 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP)第33-34页
        2.2.4 程序升温脱附(O_2-TPD)分析第34页
        2.2.5 比表面积(BET)和孔径分布(BJH)分析第34页
    2.3 二氧化锰的氧还原电化学性能测试第34-36页
        2.3.1 循环伏安测试(CV)第35页
        2.3.2 极化曲线测试(LSV)第35页
        2.3.3 Koutcky-Levich方程运算(K-L曲线)第35-36页
第三章 V掺杂二氧化锰的一步合成及其氧还原催化性能研究第36-52页
    3.1 引言第36页
    3.2 实验内容第36-37页
    3.3 结果与讨论第37-50页
        3.3.1 晶相结构分析第37-38页
        3.3.2 FESEM分析第38-39页
        3.3.3 程序升温脱附O_2-TPD分析第39-40页
        3.3.4 电感耦合等离子体原子发射光谱ICP第40-41页
        3.3.5 比表面积分析第41-43页
        3.3.6 氧还原性能分析第43-49页
        3.3.7 催化机理分析第49-50页
    3.4 本章小结第50-52页
第四章 低价金属离子掺杂二氧化锰的一步合成及其氧还原催化性能研究第52-66页
    4.1 引言第52页
    4.2 实验部分第52-53页
    4.3 结果与讨论第53-65页
        4.3.1 晶相结构分析第53-54页
        4.3.2 FESEM分析第54-55页
        4.3.3 程序升温脱附O_2-TPD分析第55-56页
        4.3.4 比表面积分析第56-57页
        4.3.5 氧还原性能分析第57-64页
        4.3.6 催化机理分析第64-65页
    4.4 本章小结第65-66页
结论第66-68页
参考文献第68-76页
攻读硕士期间发表的论文第76-78页
致谢第78页

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