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用于超连续谱产生的特种光纤关键技术的研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
1 引言第11-15页
    1.1 研究背景及意义第11页
    1.2 光子晶体光纤第11-13页
    1.3 使用COMSOL进行PCF的数值模拟过程第13页
    1.4 本论文的主要内容第13-15页
2 光子晶体光纤的理论及应用第15-30页
    2.1 光纤超连续谱第15-16页
        2.1.1 超连续谱的产生与应用第15页
        2.1.2 高能量fs脉冲技术第15-16页
    2.2 光子晶体光纤第16-18页
        2.2.1 光子晶体光纤的特性第17-18页
    2.3 光纤色散第18-20页
        2.3.1 Sellmeyer定律和材料色散第19-20页
        2.3.2 波导色散第20页
    2.4 光纤非线性第20-25页
        2.4.1 极化率张量第20-21页
        2.4.2 非线性折射率第21-23页
        2.4.3 光纤非线性传输方程第23-25页
    2.5 边界条件的选择第25-30页
        2.5.1 吸收边界条件第25-26页
        2.5.2 透明边界条件第26页
        2.5.3 完美匹配层边界条件第26-28页
        2.5.4 对称边界条件第28-29页
        2.5.5 其他边界条件及其对比第29-30页
3 光子晶体光纤尺寸和结构的选择第30-45页
    3.1 光纤包层半径对研究对象的影响第30-35页
        3.1.1 包层半径对研究对象的影响的理论分析第31页
        3.1.2 包层半径对研究对象的影响的模型仿真分析第31-35页
        3.1.3 结论第35页
    3.2 高非线性光子晶体光纤包层空气孔数量对研究对象的影响第35-39页
        3.2.1 建立模型第35-36页
        3.2.2 不同结构基模传输2D和3D图第36-38页
        3.2.3 不同结构模型有效模场面积的对比第38-39页
    3.3 大有效面积光子晶体光纤包层空气孔数量对研究对象的影响第39-44页
        3.3.1 建立模型第40页
        3.3.2 不同结构基模传输2D和3D图第40-42页
        3.3.3 不同结构模型有效模场面积的对比第42-44页
    3.4 结论第44-45页
4 高非线性及大模场面积PCF的研究第45-68页
    4.1 1060纳米工作波长高非线性PCF的设计第45-50页
        4.1.1 模型建立第46-47页
        4.1.2 色散曲线的数值计算第47-50页
        4.1.3 有效模场面积和非线性系数的数值计算第50页
    4.2 1550纳米工作波长高非线性PCF的设计第50-54页
        4.2.1 模型建立第51-52页
        4.2.2 色散曲线的数值计算第52-54页
        4.2.3 有效模场面积和非线性系数的数值计算第54页
    4.3 885-1971纳米双零色散高非线性PCF的设计第54-62页
        4.3.1 模型的求解与对比第55-59页
        4.3.2 色散曲线的数值计算第59-61页
        4.3.3 有效模场面积和非线性系数的数值计算第61-62页
    4.4 大模场面积光子晶体光纤第62-67页
        4.4.1 模型建立第62页
        4.4.2 单模传输的特性第62-65页
        4.4.3 色散和非线性系数的分析第65-67页
    4.5 本章小结第67-68页
5 总结与展望第68-70页
    5.1 本论文工作总结第68页
    5.2 未来工作的展望第68-70页
参考文献第70-73页
作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果第73-75页
学位论文数据集第75页

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