太阳能多晶硅片表面污染物去除技术的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-31页 |
| ·全球及国内光伏产业发展状况 | 第11-12页 |
| ·硅片表面污染物的种类和危害 | 第12-15页 |
| ·硅片清洗技术研究进展 | 第15-20页 |
| ·硅片表面污染物清洗剂研究进展 | 第15-19页 |
| ·硅片表面污染物清洗工艺研究进展 | 第19-20页 |
| ·表面活性剂应用原理 | 第20-29页 |
| ·表面活性剂概述 | 第20-21页 |
| ·表面活性剂的作用 | 第21-25页 |
| ·表面活性剂的润湿作用 | 第21-23页 |
| ·表面活性剂的乳化作用 | 第23-24页 |
| ·表面活性剂的增溶作用 | 第24-25页 |
| ·表面活性剂的分散作用 | 第25页 |
| ·表面活性剂的种类 | 第25-28页 |
| ·阴离子表面活性剂 | 第25-26页 |
| ·阳离子表面活性剂 | 第26页 |
| ·两性表面活性剂 | 第26-27页 |
| ·非离子表面活性剂 | 第27-28页 |
| ·表面活性剂在硅片清洗中的应用 | 第28-29页 |
| ·硅片清洗技术存在的问题及发展趋势 | 第29-30页 |
| ·选题依据和本课题完成的任务 | 第30-31页 |
| 2 第一章 太阳能多晶硅片清洗剂的研制 | 第31-49页 |
| ·概述 | 第31页 |
| ·碱对清洗剂除油效率的影响 | 第31-36页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·原料和仪器 | 第32页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-36页 |
| ·表面活性剂除油效率的研究 | 第36-46页 |
| ·单组份表面活性剂除油效率的研究 | 第37-40页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-40页 |
| ·双组份表面活性剂复配除油效率的研究 | 第40-46页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-46页 |
| ·螯合剂的考查 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 3 第二章 清洗剂配方的确定及油污清洗工艺的研究 | 第49-59页 |
| ·概述 | 第49-50页 |
| ·硅片清洗剂配方的确定 | 第50-55页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·原料和仪器 | 第50页 |
| ·实验方法 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-55页 |
| ·油污去除工艺研究 | 第55-57页 |
| ·清洗温度对除油效率的影响 | 第55-56页 |
| ·清洗时间对除油效率的影响 | 第56页 |
| ·清洗浓度对除油效率的影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 4 第三章 污染硅片清洗技术和工艺研究 | 第59-71页 |
| ·概述 | 第59页 |
| ·污染硅片清洗技术和工艺研究 | 第59-64页 |
| ·实验部分 | 第59-60页 |
| ·原料和仪器 | 第59页 |
| ·实验方法 | 第59-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·超声波清洗功率对硅片清洗后表面接触角的影响 | 第60-61页 |
| ·清洗液浓度对硅片清洗后的表面接触角的影响 | 第61-62页 |
| ·清洗时间对硅片清洗后的表面接触角的影响 | 第62页 |
| ·清洗温度对硅片清洗后的表面接触角的影响 | 第62-64页 |
| ·污染硅片清洗后的微观表面研究 | 第64-69页 |
| ·实验部分 | 第64-65页 |
| ·原料和仪器 | 第64页 |
| ·实验方法 | 第64-65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-69页 |
| ·硅片清洗后表面形貌研究 | 第65-66页 |
| ·硅片清洗后表面接触角研究 | 第66-67页 |
| ·硅片表面粗糙度研究 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
