石墨烯、二硫化钼和石墨烯/二硫化钼异质结:制备、表征和应用
中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-22页 |
1.1 石墨烯材料的研究进展概述 | 第9-14页 |
1.1.1 石墨烯的结构 | 第9-10页 |
1.1.2 石墨烯的性质 | 第10-11页 |
1.1.3 石墨烯的制备方法 | 第11-13页 |
1.1.4 石墨烯的应用 | 第13-14页 |
1.2 MoS_2及其异质结的研究进展概述 | 第14-18页 |
1.2.1 MoS_2的研究进展概述 | 第14-17页 |
1.2.2 石墨烯/二硫化钼异质结的研究进展概述 | 第17-18页 |
1.3 气相沉积法简介 | 第18-19页 |
1.3.1 化学气相沉积(CVD)的原理 | 第18页 |
1.3.2 物理气相沉积法(PVD)的原理 | 第18-19页 |
1.3.3 气相沉积法的应用 | 第19页 |
1.4 选题的意义和研究的内容 | 第19-22页 |
1.4.1 选题的意义 | 第19-20页 |
1.4.2 研究的内容 | 第20-22页 |
第二章 石墨烯的制备、表征和在太阳能电池中的应用 | 第22-35页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 实验部分 | 第22-25页 |
2.2.1 实验原料和仪器 | 第22-23页 |
2.2.2 石墨烯的制备 | 第23-24页 |
2.2.3 石墨烯的转移 | 第24-25页 |
2.3 结果与讨论 | 第25-33页 |
2.3.1 石墨烯的生长原理 | 第25-26页 |
2.3.2 石墨烯生长的影响因素 | 第26-30页 |
2.3.3 石墨烯的表征 | 第30-32页 |
2.3.4 石墨烯在太阳能电池中的应用 | 第32-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-35页 |
第三章 多层MoS_2的制备及应用 | 第35-49页 |
3.1 引言 | 第35-36页 |
3.2 实验部分 | 第36-38页 |
3.2.1 实验材料和仪器 | 第36-37页 |
3.2.2 MoS_2的制备 | 第37-38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-47页 |
3.3.1 MoS_2的生长机理 | 第38-39页 |
3.3.2 MoS_2生长的影响因素 | 第39-42页 |
3.3.3 MoS_2的表征 | 第42-46页 |
3.3.4 MoS_2在晶体管中的应用 | 第46-47页 |
3.3.5 MoS_2等离子体性质的研究 | 第47页 |
3.4 本章小结 | 第47-49页 |
第四章 石墨烯/二硫化钼异质结的制备和表征 | 第49-59页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 实验部分 | 第49-51页 |
4.2.1 实验材料和仪器 | 第49-50页 |
4.2.2 石墨烯/二硫化钼的制备 | 第50-51页 |
4.3 结果与讨论 | 第51-57页 |
4.3.1 石墨烯/二硫化钼的生长机理 | 第51-52页 |
4.3.2 工艺对石墨烯/二硫化钼异质生长的影响 | 第52-55页 |
4.3.3 石墨烯/二硫化钼的表征 | 第55-57页 |
4.4 总结 | 第57-59页 |
第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-75页 |
攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |