大角度宽波带减反射薄膜的优化设计、制备和表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·减反射薄膜的研究历史 | 第8-11页 |
| ·均质减反射薄膜 | 第9-10页 |
| ·渐变折射率减反射薄膜 | 第10-11页 |
| ·减反射原理 | 第11-14页 |
| ·渐变折射率减反射薄膜的研究现状 | 第14-21页 |
| ·"蛾眼"效应 | 第14-15页 |
| ·渐变折射率薄膜的理论设计方法 | 第15-18页 |
| ·渐变折射率薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·研究内容简介 | 第21-22页 |
| 第二章 膜系结构的优化设计及其算法的实现 | 第22-45页 |
| ·薄膜光谱特性的计算 | 第22-25页 |
| ·多光束干涉原理 | 第22-24页 |
| ·薄膜特性矩阵 | 第24-25页 |
| ·光学薄膜优化设计方法简介 | 第25-27页 |
| ·设计方法发展历程 | 第26页 |
| ·单纯形法 | 第26-27页 |
| ·遗传算法 | 第27页 |
| ·渐变折射率薄膜模型的建立 | 第27-29页 |
| ·光学薄膜材料的选择 | 第29页 |
| ·膜系结构的优化 | 第29-35页 |
| ·评价函数的建立 | 第29-31页 |
| ·程序运算 | 第31-35页 |
| ·普通载玻片折射率的确定 | 第35-40页 |
| ·透过率曲线反演 | 第35-38页 |
| ·反射率曲线反演 | 第38-40页 |
| ·优化结构的光谱特性分析 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 实验、检测设备以及斜角沉积系统 | 第45-52页 |
| ·清洗设备 | 第45页 |
| ·实验材料和试剂 | 第45页 |
| ·检测设备 | 第45-46页 |
| ·扫描电镜 | 第45页 |
| ·X-射线衍射仪 | 第45-46页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第46页 |
| ·原子力显微镜 | 第46页 |
| ·分光光度计 | 第46页 |
| ·镀膜设备 | 第46-50页 |
| ·制备方法的选择 | 第46-47页 |
| ·设备组成 | 第47-48页 |
| ·相关设备工作原理 | 第48-50页 |
| ·斜角沉积系统 | 第50-52页 |
| 第四章 单层低折射率薄膜的制备和表征 | 第52-77页 |
| ·实验工艺流程 | 第52-55页 |
| ·基片清洗 | 第52-53页 |
| ·工艺参数初探 | 第53-54页 |
| ·镀膜操作流程 | 第54-55页 |
| ·实验结果分析 | 第55-76页 |
| ·SEM分析 | 第55-65页 |
| ·XRD、EDS分析 | 第65-67页 |
| ·AFM分析 | 第67-68页 |
| ·薄膜折射率分析 | 第68-74页 |
| ·光谱特性分析 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 四层减反射薄膜的制备和表征 | 第77-89页 |
| ·实验制备 | 第77-79页 |
| ·工艺参数 | 第77页 |
| ·制备流程 | 第77-79页 |
| ·实验结果分析 | 第79-88页 |
| ·SEM形貌分析 | 第80-81页 |
| ·光谱特性分析 | 第81-87页 |
| ·减反射机理初探 | 第87-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 总结与展望 | 第89-91页 |
| ·结论 | 第89-90页 |
| ·理论设计 | 第89页 |
| ·实验制备 | 第89-90页 |
| ·展望 | 第90-91页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 致谢 | 第97页 |
