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基于参数排序空间的粉末衍射晶体结构精修自动化方法研究

摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
第一章 绪论第10-13页
    1.1 课题来源第10页
    1.2 课题研究的目的和意义第10-11页
    1.3 国内外研究概况第11-12页
    1.4 论文的主要研究内容第12-13页
第二章 晶体结构精修基本理论第13-28页
    2.1 Rietveld精修方法第13-22页
        2.1.1 Rietveld精修方法发展概述第13-14页
        2.1.2 Rietveld精修方法的原理第14-18页
        2.1.3 Rietveld精修求解过程第18-19页
        2.1.4 拟合优劣的判别因子第19-20页
        2.1.5 Rietveld精修步骤第20-22页
    2.2 Fullprof精修软件第22-27页
        2.2.1 Fullprof软件简介第22-23页
        2.2.2 Fullprof软件工作机制第23-26页
        2.2.3 Fullprof软件可视化操作界面第26页
        2.2.4 控制台运行模式“fp2k.exe”第26-27页
    2.3 本章小结第27-28页
第三章 晶体结构精修自动化方法第28-38页
    3.1 自动化精修的突破方向第28-29页
    3.2 Fullprof传统手工精修第29-31页
        3.2.1 晶体参数空间第29页
        3.2.2 手工精修策略第29-31页
    3.3 参数精修顺序的重要性第31-32页
    3.4 Fullprof黑箱模型第32-33页
        3.4.1 黑箱模型简介第32页
        3.4.2 Fullprof黑箱模型的建立第32-33页
    3.5 晶体结构精修自动化方法实现第33-37页
        3.5.1 晶体参数排序空间第33-34页
        3.5.2 一种参数组精修顺序的自动化精修第34-35页
        3.5.3 最优R_(wp)值搜索算法第35-37页
    3.6 本章小结第37-38页
第四章 晶体结构精修自动化辅助系统第38-44页
    4.1 “pcr”文件自动化处理第38-41页
        4.1.1 “pcr”文件格式第38-39页
        4.1.2 “pcr”文件自动化处理实现第39-41页
    4.2 精修自动化辅助系统实现第41-43页
        4.2.1 精修自动化辅助系统架构第41页
        4.2.2 精修自动化辅助系统面向对象实现第41-43页
    4.3 本章小结第43-44页
第五章 晶体结构精修自动化方法应用实例第44-52页
    5.1 实验数据第44页
    5.2 实验结果第44-51页
        5.2.1 R_(wp)值随精修步变化图第44-47页
        5.2.2 全谱拟合图第47-51页
    5.3 实验结果分析与结论第51页
    5.4 本章小结第51-52页
第六章 结论与展望第52-54页
    6.1 结论第52-53页
    6.2 展望第53-54页
参考文献第54-58页
作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文第58-59页
作者在攻读硕士学位期间所作的项目第59-60页
致谢第60页

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