| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 稀土离子掺杂氧化物薄膜研究背景及现状 | 第10-14页 |
| 1.1.1 稀土离子发光 | 第10-11页 |
| 1.1.2 稀土离子掺杂LN薄膜 | 第11-13页 |
| 1.1.3 稀土离子掺杂ZnO薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2 脉冲激光沉积 | 第14-16页 |
| 1.3 本文的研究内容及意义 | 第16-17页 |
| 第二章 脉冲激光沉积实验原理及实验过程 | 第17-26页 |
| 2.1 脉冲激光沉积实验原理 | 第17-21页 |
| 2.1.1 激光与靶材的相互作用 | 第18-19页 |
| 2.1.2 等离子体膨胀 | 第19-20页 |
| 2.1.3 衬底上沉积成膜 | 第20-21页 |
| 2.2 脉冲激光沉积系统 | 第21-24页 |
| 2.2.1 激光器及聚光系统 | 第22-23页 |
| 2.2.2 反应室及送样室 | 第23-24页 |
| 2.3 脉冲激光沉积实验过程 | 第24-26页 |
| 第三章 LN薄膜的制备及性质研究 | 第26-37页 |
| 3.1 SiO_2/Si衬底LN薄膜制备 | 第26-27页 |
| 3.2 生长条件对LN薄膜的影响 | 第27-35页 |
| 3.2.1 O_2/Ar气氛对LN薄膜的影响 | 第27-29页 |
| 3.2.2 衬底温度对LN薄膜的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 氧压对LN薄膜的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.4 脉冲激光重复频率对LN薄膜的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.5 退火处理对LN薄膜的影响 | 第34-35页 |
| 3.3 LN薄膜光波导性质测试 | 第35-37页 |
| 3.3.1 光波导测试原理及方法 | 第36页 |
| 3.3.2 LN薄膜光波导性质测试 | 第36-37页 |
| 第四章 Er:LN薄膜的制备及性质研究 | 第37-48页 |
| 4.1 SiO_2/Si衬底Er:LN薄膜制备 | 第37-38页 |
| 4.2 生长条件对Er:LN薄膜的影响 | 第38-42页 |
| 4.2.1 衬底温度对Er:LN薄膜的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 氧压对Er: LN薄膜的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.3 退火处理对Er:LN薄膜的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.4 沉积时间对Er:LN薄膜的影响 | 第41-42页 |
| 4.3 Er:LN薄膜厚度测试 | 第42-43页 |
| 4.4 Er:LN薄膜光致荧光性质测试 | 第43-48页 |
| 4.4.1 光致荧光测试原理及方法 | 第44-45页 |
| 4.4.2 Er:LN薄膜光致荧光测试结果 | 第45-46页 |
| 4.4.3 沉积时间对Er:LN薄膜光致荧光的影响 | 第46-48页 |
| 第五章 Eu:ZnO薄膜的制备及性质研究 | 第48-55页 |
| 5.1 SiO_2/Si衬底Eu:ZnO薄膜制备 | 第48-49页 |
| 5.2 生长条件对Eu:ZnO薄膜的影响 | 第49-54页 |
| 5.2.1 衬底温度对Eu:ZnO薄膜的影响 | 第49-51页 |
| 5.2.2 氧压对Eu:ZnO薄膜的影响 | 第51-52页 |
| 5.2.3 脉冲激光重复频率对Eu:ZnO薄膜的影响 | 第52-53页 |
| 5.2.4 沉积时间对Eu:ZnO薄膜的影响 | 第53-54页 |
| 5.3 Eu:ZnO薄膜光致荧光性质测试 | 第54-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |