| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 太赫兹波段热释电探测器简介 | 第10-11页 |
| 1.1.1 太赫兹波 | 第10-11页 |
| 1.1.2 热释电探测器 | 第11页 |
| 1.2 热释电材料的发展 | 第11-14页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 钽酸锂薄膜的制备及溅射工艺研究 | 第16-26页 |
| 2.1 钽酸锂薄膜的制备 | 第16-19页 |
| 2.1.1 钽酸锂材料的晶体结构 | 第16-17页 |
| 2.1.2 钽酸锂薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.2 射频磁控溅射钽酸锂薄膜 | 第19-24页 |
| 2.2.1 实验材料及仪器 | 第19-20页 |
| 2.2.2 衬底及下电极的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.3 射频磁控溅射钽酸锂薄膜工艺 | 第22-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 磁控溅射钽酸锂薄膜的晶体性能研究 | 第26-44页 |
| 3.1 溅射功率对钽酸锂薄膜性能的影响 | 第26-33页 |
| 3.1.1 钽酸锂薄膜拉曼光谱表征 | 第27-31页 |
| 3.1.2 钽酸锂薄膜XRD表征 | 第31-33页 |
| 3.2 退火温度对钽酸锂薄膜性能的影响 | 第33-38页 |
| 3.2.1 钽酸锂薄膜SEM表征 | 第34-35页 |
| 3.2.2 钽酸锂薄膜XRD表征 | 第35-36页 |
| 3.2.3 钽酸锂薄膜拉曼光谱表征 | 第36-37页 |
| 3.2.4 钽酸锂薄膜EDS表征 | 第37-38页 |
| 3.3 退火氛围对钽酸锂薄膜性能的影响 | 第38-42页 |
| 3.3.1 钽酸锂薄膜XRD表征 | 第39-40页 |
| 3.3.2 钽酸锂薄膜拉曼光谱表征 | 第40-41页 |
| 3.3.3 钽酸锂薄膜EDS表征 | 第41-42页 |
| 3.4 衬底对钽酸锂薄膜晶体性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 钽酸锂薄膜的光学性能研究 | 第44-53页 |
| 4.1 光学性质椭偏研究 | 第44-46页 |
| 4.1.1 椭圆偏振技术简介 | 第44-45页 |
| 4.1.2 钽酸锂薄膜椭偏法模型的建立 | 第45-46页 |
| 4.2 钽酸锂薄膜光学性能表征 | 第46-51页 |
| 4.2.1 不同退火温度下退火的钽酸锂薄膜光学性能表征 | 第47-49页 |
| 4.2.2 不同退火氛围下退火的钽酸锂薄膜光学性能表征 | 第49-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 钽酸锂薄膜电学性能研究 | 第53-66页 |
| 5.1 钽酸锂薄膜的漏电流测试 | 第53-55页 |
| 5.1.1 漏电流对薄膜性能的影响 | 第53页 |
| 5.1.2 漏电流表征结果 | 第53-55页 |
| 5.2 钽酸锂薄膜的介电性能测试 | 第55-56页 |
| 5.3 钽酸锂薄膜的极化及铁电性能研究 | 第56-59页 |
| 5.3.1 钽酸锂薄膜的极化实验 | 第56-57页 |
| 5.3.2 钽酸锂薄膜的铁电性能测试 | 第57-59页 |
| 5.4 钽酸锂薄膜的热释电测试研究 | 第59-62页 |
| 5.4.1 电荷法测试热释电系数 | 第59-60页 |
| 5.4.2 电流法测试热释电系数 | 第60-61页 |
| 5.4.3 热释电测试结果及分析 | 第61-62页 |
| 5.5 钽酸锂热释电单元器件测试 | 第62-65页 |
| 5.5.1 测试原理 | 第62-63页 |
| 5.5.2 测试结果 | 第63-65页 |
| 5.6 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 主要结论 | 第66-67页 |
| 6.2 前景展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第72-73页 |