| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 微弧氧化简介 | 第10-12页 |
| 1.2.1 微弧氧化概念 | 第10-11页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术特点 | 第11页 |
| 1.2.3 微弧氧化技术的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 微弧氧化的发展历史及研究趋势 | 第12-15页 |
| 1.3.1 微弧氧化历史进程 | 第12-13页 |
| 1.3.2 微弧氧化过程及机理研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3.3 微弧氧化复合膜层研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 课题的研究意义及主要的研究内容 | 第15-17页 |
| 1.4.1 课题的研究意义 | 第15-16页 |
| 1.4.2 研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 实验设备与研究方法 | 第17-25页 |
| 2.1 实验装置 | 第17页 |
| 2.2 实验材料及试剂的选择 | 第17-18页 |
| 2.2.1 实验用主要材料 | 第17-18页 |
| 2.2.2 实验用主要试剂 | 第18页 |
| 2.3 微弧氧化工艺流程 | 第18-20页 |
| 2.3.1 试样的前处理 | 第18-19页 |
| 2.3.2 微弧氧化处理 | 第19-20页 |
| 2.3.2.1 电解液的选择与配制 | 第19页 |
| 2.3.2.2 第二相粒子的选择及前处理 | 第19-20页 |
| 2.4 膜层的制备 | 第20-21页 |
| 2.5 试样的后处理 | 第21页 |
| 2.6 膜层的性能表征 | 第21-25页 |
| 2.6.1 膜层厚度测量 | 第21页 |
| 2.6.2 膜层形貌与元素分析 | 第21页 |
| 2.6.3 膜层复合量的测定 | 第21-22页 |
| 2.6.4 膜层XRD分析 | 第22页 |
| 2.6.5 膜层耐蚀性测试 | 第22页 |
| 2.6.6 膜层粗糙度测量 | 第22-23页 |
| 2.6.7 膜层磨损量计算及摩擦磨损性能测试 | 第23页 |
| 2.6.8 基体与膜层的剥离 | 第23-25页 |
| 第3章 铝合金微弧氧化的过程及生长机理 | 第25-43页 |
| 3.1 前言 | 第25页 |
| 3.2 微弧氧化电压和弧光变化 | 第25-26页 |
| 3.3 微弧氧化陶瓷膜层的生长规律 | 第26-31页 |
| 3.4 表面形貌及XRD分析 | 第31-34页 |
| 3.5 膜层减薄后表面形貌分析 | 第34-35页 |
| 3.6 膜层/基体界面形貌及XRD分析 | 第35-39页 |
| 3.7 膜层截面形貌分析 | 第39-40页 |
| 3.8 膜层击穿放电生长模型 | 第40-42页 |
| 3.9 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 ZrO_2微弧氧化复合膜层生长机制研究 | 第43-52页 |
| 4.1 前言 | 第43页 |
| 4.2 复合膜层截面形貌及元素分析 | 第43-46页 |
| 4.3 复合膜层成分分析 | 第46-48页 |
| 4.4 复合膜层/基体结合处形貌及相组成分析 | 第48-49页 |
| 4.5 第二相粒子的沉积方式及模型 | 第49-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第5章 α-Al_2O_3微弧氧化复合膜的性能研究 | 第52-65页 |
| 5.1 前言 | 第52-53页 |
| 5.2 α-Al_2O_3微粒复合量的计算 | 第53页 |
| 5.3 微弧氧化/α-Al_2O_3复合膜的微观形貌 | 第53-56页 |
| 5.4 微弧氧化/α-Al_2O_3复合膜的成分及相结构 | 第56页 |
| 5.5 微弧氧化/α-Al_2O_3复合膜的摩擦行为及耐磨机理 | 第56-59页 |
| 5.6 微弧氧化/α-Al_2O_3复合膜的耐蚀性及耐蚀机理 | 第59-64页 |
| 5.7 本章小结 | 第64-65页 |
| 第6章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
