| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| ·立题背景 | 第12-13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-21页 |
| ·分子模拟 | 第13-15页 |
| ·氧化石墨 | 第15-17页 |
| ·有机物/氧化石墨插层复合物 | 第17-20页 |
| ·存在的主要问题及发展趋势 | 第20-21页 |
| ·选题的依据及意义 | 第21-22页 |
| ·主要研究内容及成果 | 第22-24页 |
| ·主要研究内容 | 第22-24页 |
| ·主要研究成果 | 第24页 |
| ·主要创新点 | 第24-25页 |
| ·主要工作量 | 第25-26页 |
| 2 氧化石墨及有机插层复合物的制备与表征 | 第26-48页 |
| ·实验 | 第26-29页 |
| ·实验原料 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第27页 |
| ·实验步骤 | 第27-28页 |
| ·实验方案 | 第28页 |
| ·表征方法 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-47页 |
| ·氧化石墨的XRD分析 | 第29-30页 |
| ·氧化石墨的FT-IR分析 | 第30-32页 |
| ·氧化石墨的Raman分析 | 第32-33页 |
| ·氧化石墨的XPS分析 | 第33-34页 |
| ·ANI/GO插层复合物的层间距 | 第34-36页 |
| ·ANI分子在GO层间的排列方式 | 第36-37页 |
| ·C_nTAB/GO插层复合物的层间距 | 第37-41页 |
| ·C_nTAB分子在GO层间的排列方式 | 第41-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 3 氧化石墨的结构与性质计算研究 | 第48-54页 |
| ·模型建立与模拟方法 | 第48-50页 |
| ·模型建立 | 第48页 |
| ·模拟方法 | 第48-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·层间距 | 第50页 |
| ·密度与晶胞体积 | 第50-51页 |
| ·优化前后各能量项 | 第51-52页 |
| ·优化结构 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 4 苯胺 / 氧化石墨插层复合物的结构与性质计算研究 | 第54-70页 |
| ·模型建立与模拟方法 | 第54-55页 |
| ·模型建立 | 第54页 |
| ·模拟方法 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-68页 |
| ·层间距 | 第55-56页 |
| ·密度与晶胞体积 | 第56-57页 |
| ·优化前后各能量项 | 第57-60页 |
| ·优化结构 | 第60-61页 |
| ·局部密度分布 | 第61-62页 |
| ·均方位移和自扩散系数 | 第62-63页 |
| ·径向分布函数和结构因子 | 第63-66页 |
| ·苯胺分子在氧化石墨层间的排列方式 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 5 季铵盐 / 氧化石墨插层复合物的结构与性质计算研究 | 第70-97页 |
| ·模型建立与模拟方法 | 第70-71页 |
| ·模型建立 | 第70页 |
| ·模拟方法 | 第70-71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-96页 |
| ·层间距 | 第71-74页 |
| ·密度与晶胞体积 | 第74-76页 |
| ·优化前后各能量项 | 第76-79页 |
| ·优化结构 | 第79-82页 |
| ·局部密度分布 | 第82-83页 |
| ·均方位移和自扩散系数 | 第83-86页 |
| ·径向分布函数和结构因子 | 第86-90页 |
| ·季铵盐分子在氧化石墨层间的排列方式 | 第90-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 6 模拟计算在氧化石墨加工中的应用 | 第97-108页 |
| ·概况 | 第97-98页 |
| ·具体应用 | 第98-107页 |
| ·层间距 | 第98-102页 |
| ·能量 | 第102-104页 |
| ·结构 | 第104页 |
| ·局部密度分布 | 第104-105页 |
| ·均方位移和自扩散系数 | 第105-106页 |
| ·径向分布函数和结构因子 | 第106-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 结论 | 第108-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-127页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及研究成果 | 第127页 |