| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 前言 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述与选题依据 | 第9-21页 |
| ·金刚石的性能和应用 | 第9-11页 |
| ·化学气相法合成金刚石的方法 | 第11-14页 |
| ·化学气相法合成金刚石技术的发展历史与研究现状 | 第14-19页 |
| ·化学气相法合成金刚石技术的发展历史 | 第14-15页 |
| ·国外化学气相法合成金刚石技术的研究现状及存在问题 | 第15-18页 |
| ·国内化学气相法合成金刚石技术的研究现状及存在问题 | 第18-19页 |
| ·选题依据及主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 MPCVD 合成聚晶金刚石厚膜的原理 | 第21-26页 |
| ·金刚石晶体的结构特点 | 第21-23页 |
| ·MPCVD 聚晶金刚石厚膜的生长原理 | 第23-26页 |
| 第三章 MPCVD 合成聚晶金刚石厚膜的实验研究 | 第26-33页 |
| ·MPCVD 聚晶金刚石厚膜的实验装置 | 第26-29页 |
| ·真空系统 | 第27页 |
| ·石英管真空生长室 | 第27-28页 |
| ·微波系统 | 第28页 |
| ·气路系统 | 第28页 |
| ·冷却水系统 | 第28页 |
| ·温度检测系统 | 第28-29页 |
| ·MPCVD 聚晶金刚石厚膜的实验研究 | 第29-33页 |
| ·实验步骤 | 第29-30页 |
| ·金刚石薄膜高速生长工艺设计 | 第30页 |
| ·样品检测 | 第30-33页 |
| 第四章 MPCVD 合成聚晶金刚石厚膜质量的影响因素分析 | 第33-49页 |
| ·沉积气氛对 MPCVD 聚晶金刚石厚膜质量的影响 | 第33-39页 |
| ·碳源气体的重要作用及影响 | 第33页 |
| ·氢气的重要作用及影响 | 第33-34页 |
| ·氮气的重要作用及影响 | 第34页 |
| ·沉积气氛实验探索 | 第34-35页 |
| ·厚膜生长形貌观察及测试 | 第35-37页 |
| ·结果分析 | 第37-39页 |
| ·基板温度对 MPCVD 聚晶金刚石厚膜质量的影响 | 第39-44页 |
| ·实验探索 | 第40-41页 |
| ·厚膜生长形貌观察及测试 | 第41-43页 |
| ·结果分析 | 第43-44页 |
| ·生长室压力对 MPCVD 聚晶金刚石厚膜质量的影响 | 第44-49页 |
| ·生长压力实验探索 | 第44-45页 |
| ·厚膜生长形貌观察及测试 | 第45-46页 |
| ·结果分析 | 第46-49页 |
| 第五章 MPCVD 合成金刚石厚膜的应用及加工技术 | 第49-54页 |
| ·MPCVD 金刚石厚膜在工业上的应用 | 第49页 |
| ·MPCVD 金刚石厚膜在宝石学上的应用 | 第49-52页 |
| ·MPCVD 聚晶金刚石厚膜的加工工艺 | 第52-54页 |
| 第六章 MPCVD 合成聚晶金刚石厚膜的实验技术探讨总结 | 第54-57页 |
| ·MPCVD 合成聚晶金刚石厚膜的工艺技术 | 第54页 |
| ·MPCVD 合成聚晶金刚石生长的主要影响因素 | 第54-55页 |
| ·MPCVD 聚晶金刚石厚膜生长形貌及测试结论 | 第55-56页 |
| ·值得进一步探索和改进的方面 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 作者简介及发表论文及参加科研情况 | 第62页 |
