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表面活性剂信息管理系统

中文摘要第1-5页
Abstract第5-6页
目录第6-8页
1 文献综述第8-24页
   ·前言第8-9页
   ·表面活性剂 HLB 值的 QSPR 研究第9-11页
     ·HLB 的概念第9页
     ·HLB 值的预报研究进展第9-11页
   ·表面活性剂 CMC 值的预报研究第11-13页
     ·CMC 的概念第11页
     ·CMC 值的预报研究进展第11-13页
   ·物化参数简介第13-17页
     ·电性参数第13-15页
     ·疏水性参数第15-16页
     ·立体效应参数第16-17页
   ·数据库理论第17-19页
     ·数据库管理系统(DBMS)第17-18页
     ·化学数据库第18页
     ·ACCESS 简介第18-19页
     ·Visual Studio 2008 和 C# 简介第19页
   ·化学结构检索技术第19-22页
     ·图的基本概念第20页
     ·子图匹配算法第20-22页
   ·论文设计第22-24页
2 表面活性剂信息管理系统的设计第24-27页
   ·表面活性剂信息管理系统设计内容第24页
   ·表面活性剂信息管理系统的构建第24-26页
     ·数据库信息收集第24-25页
     ·框架设计图第25-26页
   ·HLB 和 LogCMC 值预报模块的建立第26页
   ·GMA 算法二维子结构检索模块第26页
   ·表面活性剂信息管理系统的使用方法第26页
   ·本章小结第26-27页
3 表面活性剂数据库的设计和建立第27-44页
   ·数据库模型介绍第27-29页
     ·概念模型第27页
     ·层次模型第27-28页
     ·网状模型第28-29页
     ·关系模型第29页
     ·面向对象模型第29页
   ·数据库平台的选择第29-32页
   ·数据来源和信息分析第32-33页
   ·表面活性剂数据库的定义第33-36页
     ·表面活性剂数据库模式定义第33-34页
     ·表面活性剂数据库域定义第34-36页
   ·表面活性剂信息管理系统的数据库检索模块第36-43页
     ·用户登录界面的编写第36-39页
     ·数据库查询界面的编写第39-43页
     ·数据库添加和删除信息界面的编写第43页
   ·本章小结第43-44页
4 表面活性剂 HLB 值和 LogCMC 值 QSPR 模型的研究第44-52页
   ·运用参数一建立 HLB 值和 LogCMC 值的 QSPR 模型第44-49页
     ·HLB 值的预测第44-45页
     ·LogCMC 值的预测第45-49页
   ·运用参数二建立 HLB 值和 LogCMC 值的 QSPR 模型第49-50页
   ·表面活性剂信息管理系统中的预报模块界面第50-51页
   ·本章小结第51-52页
5 二维子结构检索在表面活性剂信息管理系统中的运用第52-67页
   ·结构信息存储第52-58页
     ·结构信息的选取第52-54页
     ·现有的结构信息存储格式第54-56页
     ·结构信息存储格式设计第56-58页
   ·分子二维结构检索算法—GMA 算法的优化第58-63页
     ·GMA 算法原理第58-60页
     ·GMA 算法遍历规则第60-63页
   ·子结构检索模块的开发策略第63-64页
     ·打包 GMA 算法源代码并生成动态链接库第63页
     ·在 Visual C#中调用动态链接库第63-64页
   ·二维子结构检索界面第64-66页
   ·本章小结第66-67页
6 总结和展望第67-69页
   ·总结第67-68页
   ·展望第68-69页
参考文献第69-74页
附录 A 参数一硫酸盐类表面活性剂 HLB 训练集第74-76页
附录 B 参数一表面活性剂 LogCMC 训练集第76-81页
附录 C 原子类型索引表第81-82页
发表文章目录第82-83页
致谢第83页

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