不同衬底上Ca纳米多层薄膜的制备与光学特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·纳米材料制备技术的发展历史 | 第11-12页 |
| ·光学薄膜的研究现状 | 第12-17页 |
| ·高功率激光薄膜 | 第12-13页 |
| ·类金刚石及金刚石薄膜 | 第13-14页 |
| ·软 X 射线多层薄膜 | 第14-15页 |
| ·太阳能选择性吸收膜 | 第15页 |
| ·光无源器件膜 | 第15-17页 |
| ·本文的研究意义及主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜光学特性的计算理论 | 第19-35页 |
| ·．单色平面电磁波 | 第19-28页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第19-20页 |
| ·波动方程的解 | 第20-23页 |
| ·光学导纳 | 第23-25页 |
| ·E 和 H 的边界条件 | 第25-26页 |
| ·坡印廷矢量 | 第26-28页 |
| ·光学薄膜特性的理论计算 | 第28-35页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第28-31页 |
| ·多层膜的特性计算 | 第31-35页 |
| 第三章 Ca 纳米多层薄膜的膜系设计 | 第35-41页 |
| ·膜料与基片的选择 | 第35-36页 |
| ·膜料的选取 | 第35-36页 |
| ·基片的选择 | 第36页 |
| ·膜系设计与理论模拟 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-41页 |
| 第四章 Ca 纳米多层薄膜的制备及光学性质分析 | 第41-57页 |
| ·薄膜生长特点 | 第41-42页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第41-42页 |
| ·薄膜的致密性 | 第42页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第42-45页 |
| ·分子束外延 | 第43页 |
| ·化学气相沉积 | 第43页 |
| ·溅射沉积 | 第43-44页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第44-45页 |
| ·真空蒸镀 | 第45页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第45-47页 |
| ·X 射线衍射 | 第45-46页 |
| ·扫描电镜 | 第46页 |
| ·原子力显微镜 | 第46页 |
| ·台阶仪 | 第46页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第46-47页 |
| ·Ca 纳米薄膜的制备与微结构分析 | 第47-53页 |
| ·Ca 纳米薄膜的制备 | 第47页 |
| ·XRD 分析 | 第47-50页 |
| ·SEM 分析 | 第50-51页 |
| ·AFM 分析 | 第51-53页 |
| ·Ca 纳米多层薄膜的光学测试及结果 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第65-66页 |
