| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·课题背景及研究意义 | 第8页 |
| ·AAO制备工艺概述 | 第8-10页 |
| ·二次阳极氧化法(two-step anodic oxidation method) | 第8-9页 |
| ·高场阳极氧化法 | 第9页 |
| ·预先刻印法(pretexturing or prepatterning) | 第9-10页 |
| ·AAO模板及去阻挡层技术 | 第10-13页 |
| ·孔径和孔间距可控的AAO膜板的制备 | 第10-11页 |
| ·AAO模板阻挡层的去除 | 第11-13页 |
| ·基于AAO模板的纳米材料的制备 | 第13-15页 |
| ·模板法制备纳米材料及其优点 | 第13-14页 |
| ·利用AAO模板制备纳米点材料的常用方法 | 第14-15页 |
| ·金属纳米粒子光学性能的研究 | 第15-16页 |
| ·本文的主要研究目的及研究内容 | 第16-18页 |
| ·研究目的 | 第17页 |
| ·研究内容 | 第17-18页 |
| 2 超大孔间距AAO模板的制备 | 第18-28页 |
| ·实验部分 | 第18-20页 |
| ·实验试剂与设备 | 第18页 |
| ·铝箔预处理工艺 | 第18-19页 |
| ·大孔径AAO模板的制备 | 第19-20页 |
| ·铝片表面形貌对氧化膜的影响 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-27页 |
| ·大孔径AAO模板的制备 | 第20-23页 |
| ·铝片表面形貌对氧化膜的影响 | 第23-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 有序超薄AAO模板的制备 | 第28-38页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·实验试剂与设备 | 第28-29页 |
| ·有序超薄AAO模板的氧化条件 | 第29-30页 |
| ·有序AAO模板的剥离与阻挡层去除 | 第30页 |
| ·模板衬底的制备及超薄膜转移 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-36页 |
| ·压印法与传统二次氧化对比 | 第31-33页 |
| ·超薄AAO模板 | 第33-34页 |
| ·超薄模板的剥离与阻挡层的去除 | 第34-35页 |
| ·衬底的选择 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 4 金属纳米点阵制备及其光学性质 | 第38-53页 |
| ·实验部分 | 第38-41页 |
| ·实验试剂与设备 | 第38-39页 |
| ·金属纳米点阵的制备 | 第39-40页 |
| ·金属纳米点阵的光学性质测试 | 第40页 |
| ·金属纳米点阵表面拉曼增强测试 | 第40页 |
| ·应用高度规整规模板制备可恢复超疏水材料 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-51页 |
| ·金属纳米点阵的形貌结构 | 第41-42页 |
| ·光学性质 | 第42-45页 |
| ·表面拉曼增强(Surface-Enhanced Raman Scattering,SERS) | 第45-50页 |
| ·应用高度规整规模板制备可恢复超疏水材料 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·主要结论 | 第53-54页 |
| ·主要创新点 | 第54页 |
| ·工作展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 附录 | 第63页 |
