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π-π重叠相互作用与磁耦合机理研究

摘要第1-8页
Abstract第8-10页
前言第10-18页
第一章 具有π-π重叠结构的单核 Cu~(II)配合物 [Cu(PhenTA)_2](ClO_4)CH_3CH_2OH 的合成,表征及磁耦合机理研究第18-28页
 第一节 具有π-π重叠结构的单核 Cu~(II)配合物 [Cu(PhenTA)_2](ClO_4)CH_3CH_2OH 的合成,表征及磁耦合机理研究第19-28页
  一、实验部分第19-22页
   1. 试剂第19页
   2. 物理测试第19页
   3. 配合物的合成第19-20页
   4. π-π重叠体系中短距离接触原子上自旋密度的理论计算第20页
   5. 化合物的 X-射线单晶衍射第20-22页
  二、结果讨论第22-27页
   1. 配合物[Cu(PhenTA)_2](ClO_4)CH_3CH_2OH ]晶体结构第22-23页
   2. 磁学性质的研究第23-27页
  三、小结第27-28页
第二章 π-π重叠体系的磁耦合机理研究第28-75页
 第一节 文献报道的十六个含有π-π重叠体系的晶体结构复述第28-49页
  一、六个含 Cu~(II)配合物晶体结构复述第28-39页
     ·配合物 C1 [Cu(PhenOH)Cl(OH)]的晶体结构复述第28-30页
     ·配合物 C2 [Cu(PhenP)(ONO_2)_2]的晶体结构复述第30-32页
     ·配合物 C3 [Cu(PhenMP)Cl_2]的晶体结构复述第32-34页
     ·配合物 C4 [Cu(PhenMP)Br_2]的晶体结构复述第34-35页
     ·配合物 C5 [Cu(PhenAP)(ONO_2)(HOCH_3)] NO_3的晶体结构复述第35-36页
     ·配合物 C6 [Cu(PhenAP)Cl_2]的晶体结构复述第36-39页
  二、十个自由基型化合物晶体结构复述第39-49页
     ·R1 自由基结构复述第39页
     ·R2 自由基结构复述第39-40页
     ·R3 自由基结构复述第40-41页
     ·R4、R4*自由基结构复述第41-43页
     ·R5 自由基结构复述第43-44页
     ·R6 自由基结构复述第44页
     ·R7 自由基结构复述第44-45页
     ·R8 自由基结构复述第45-46页
     ·R9 自由基结构复述第46-47页
     ·R10 自由基结构复述第47-49页
 第二节 十七个含有π-π重叠体系的化合物的磁耦合机理研究第49-75页
  一、π-π重叠体系中短距离接触原子上自旋密度的理论计算第49页
  二、十六个配合物的π-π重叠体系中短距离接触原子上的电子自旋密度第49-64页
  三、磁耦合强度与自旋密度关系的研究第64-74页
  四、小结第74-75页
参考文献第75-85页
附录 (配体红外光谱图)第85-86页
作者在硕士期间发表的学术论文第86-87页
致谢第87页

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