亚波长金属结构中基于表面等离激元的光场调控
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 第一节 表面等离子光学的历史 | 第12-15页 |
| 第二节 表面等离激元的基本性质 | 第15-20页 |
| ·表面等离激元的色散特性 | 第15-18页 |
| ·表面等离激元的特征长度参数 | 第18-20页 |
| 第三节 表面等离激元的激发方式 | 第20-22页 |
| ·衰减全反射(ATR)法 | 第20-21页 |
| ·衍射补偿法 | 第21-22页 |
| ·近场激发法 | 第22页 |
| 第四节 表面等离激元研究的热点问题 | 第22-28页 |
| ·纳米光子集成器件 | 第23-25页 |
| ·纳米聚焦或表面等离子透镜 | 第25-26页 |
| ·新型光源和能源 | 第26-27页 |
| ·基于SPPs的表面增强拉曼散射 | 第27-28页 |
| 第五节 本论文的研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 数值计算方法 | 第30-41页 |
| 第一节 时域有限差分法 | 第30-36页 |
| ·差分计算基本概念 | 第30-31页 |
| ·Yee氏元胞 | 第31-32页 |
| ·Maxwell方程及其差分形式 | 第32-33页 |
| ·FDTD数值稳定性 | 第33-35页 |
| ·FDTD的特点 | 第35-36页 |
| 第二节 有限元法 | 第36-38页 |
| ·有限元方法计算电磁场原理 | 第36-37页 |
| ·有限元求解步骤及特点 | 第37-38页 |
| 第三节 FDTD与FEM的比较 | 第38-39页 |
| 第四节 数值计算中金属介质的色散模型 | 第39-41页 |
| 第三章 内嵌凹槽的金属亚波长狭缝共振透射特性 | 第41-52页 |
| 第一节 研究背景及结构模型 | 第41-44页 |
| ·增强透射现象及其透射机理研究 | 第41-42页 |
| ·存在的问题 | 第42-43页 |
| ·嵌入凹槽的亚波长金属狭缝模型 | 第43-44页 |
| 第二节 结果与讨论 | 第44-50页 |
| ·内嵌凹槽的亚波长金属狭缝的透射特性 | 第44-45页 |
| ·嵌入凹槽后狭缝透射特性变化原因分析 | 第45-50页 |
| 第三节 本章小结与讨论 | 第50-52页 |
| 第四章 亚波长金属狭缝阵列中的光场调控 | 第52-72页 |
| 第一节 背景及光场调控原理 | 第52-56页 |
| ·研究背景 | 第52-53页 |
| ·亚波长金属狭缝阵列聚焦原理 | 第53-56页 |
| 第二节 通过在阵列内部嵌入凹槽进行光场调控 | 第56-61页 |
| ·狭缝内嵌入凹槽对相位调节的原理及结构模型 | 第56-58页 |
| ·内嵌凹槽狭缝阵列的聚焦结果 | 第58-60页 |
| ·内嵌凹槽狭缝阵列的偏转结果 | 第60-61页 |
| 第三节 入射表面嵌入凹槽对光场的调控 | 第61-70页 |
| ·入射表面凹槽对狭缝透射相位调节原理 | 第61-64页 |
| ·金属膜表面凹槽反射特性分析 | 第64-67页 |
| ·入射表面嵌入凹槽的金属狭缝阵列的光束聚焦 | 第67-69页 |
| ·入射表面嵌入凹槽的金属狭缝阵列的光束偏转 | 第69-70页 |
| 第四节 本章小结与讨论 | 第70-72页 |
| 第五章 双层亚波长金属光栅中的二阶莫尔条纹 | 第72-89页 |
| 第一节 莫尔条纹简述 | 第72-77页 |
| ·莫尔条纹的形成 | 第72-75页 |
| ·莫尔条纹的特点及应用 | 第75-76页 |
| ·近场莫尔条纹 | 第76-77页 |
| 第二节 同周期的双层亚波长金属光栅的耦合机制 | 第77-78页 |
| 第三节 二阶的莫尔条纹 | 第78-85页 |
| ·结构模型 | 第79-80页 |
| ·二阶莫尔条纹的形成 | 第80-85页 |
| 第四节 莫尔条纹实用性的优化 | 第85-87页 |
| 第五节 本章小结与讨论 | 第87-89页 |
| 第六章 总结和展望 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 个人简历 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第102页 |
