| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-28页 |
| ·金刚石薄膜的结构和性能 | 第13-18页 |
| ·力学性质 | 第14-15页 |
| ·热学性质 | 第15-16页 |
| ·光学性质 | 第16-17页 |
| ·电学及化学性质 | 第17-18页 |
| ·金刚石薄膜的发展历程以及制备方法 | 第18-25页 |
| ·金刚石薄膜的发展历程 | 第18-19页 |
| ·金刚石薄膜的制备方法 | 第19-25页 |
| ·本文工作的目的与意义 | 第25-28页 |
| 第2章 CVD沉积金刚石膜原理和MPCVD实验装置及表征 | 第28-42页 |
| ·化学气相沉积金刚石的条件及原理 | 第28-32页 |
| ·CVD沉积金刚石膜条件 | 第28-29页 |
| ·CVD薄膜沉积原理 | 第29-32页 |
| ·实验装置 | 第32-38页 |
| ·微波系统 | 第33-36页 |
| ·气路系统 | 第36页 |
| ·装置的真空及检测系统 | 第36-37页 |
| ·保护系统 | 第37-38页 |
| ·样品表征方法 | 第38-42页 |
| ·光学金相显微镜 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| ·原子力显微镜 | 第39页 |
| ·拉曼光谱 | 第39-40页 |
| ·XRD衍射 | 第40-42页 |
| 第3章 MPCVD制备金刚石薄膜的工艺研究 | 第42-54页 |
| ·基片的预处理对金刚石薄膜沉积的影响 | 第42-44页 |
| ·基片温度对金刚石薄膜沉积的影响 | 第44-47页 |
| ·微波功率对金刚石薄膜沉积的影响 | 第47-50页 |
| ·沉积气压对金刚石薄膜的影响 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 高质量择优取向金刚石薄膜的制备 | 第54-62页 |
| ·影响金刚石取向的a参数 | 第54-55页 |
| ·高质量择优取向金刚石薄膜的制备 | 第55-57页 |
| ·结果分析 | 第57-60页 |
| ·表面形貌图分析(SEM) | 第57-58页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第58-59页 |
| ·金刚石薄膜XRD测试分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 论文总结与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |