| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·甲烷重整制合成气 | 第12-17页 |
| ·甲烷水蒸气重整反应 | 第12页 |
| ·甲烷部分氧化反应 | 第12-13页 |
| ·甲烷二氧化碳重整反应 | 第13-14页 |
| ·甲烷临氧二氧化碳重整反应 | 第14-17页 |
| ·金属活性组分的选择对催化剂性能的影响 | 第15页 |
| ·载体的选择对催化剂性能的影响 | 第15页 |
| ·助剂对催化剂性能的影响 | 第15-16页 |
| ·制备方法对催化剂性能的影响 | 第16-17页 |
| ·本课题的选题依据与研究内容 | 第17-19页 |
| ·研究背景 | 第17页 |
| ·研究内容 | 第17-18页 |
| ·创新性 | 第18-19页 |
| 第二章 研究方法及表征手段 | 第19-23页 |
| ·化学试剂原料与仪器设备 | 第19-20页 |
| ·实验药品 | 第19-20页 |
| ·仪器设备 | 第20页 |
| ·反应实验装置流程与数据处理方法 | 第20-23页 |
| ·催化剂活性测试装置流程图 | 第20页 |
| ·催化剂活性测试方法 | 第20页 |
| ·催化剂稳定性的测定 | 第20-21页 |
| ·数据处理方法 | 第21-23页 |
| 第三章 Ni/SiO_2催化剂的掺铈修饰 | 第23-43页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·实验部分 | 第24-28页 |
| ·催化剂的制备 | 第24-25页 |
| ·催化剂的元素含量测试（ICP-AES） | 第25页 |
| ·催化剂比表面积的测定 | 第25页 |
| ·催化剂的 X-射线衍射分析（XRD） | 第25-26页 |
| ·催化剂的透射电子显微镜分析（TEM） | 第26页 |
| ·催化剂的高角度环形暗场扫描透射分析（HAADF-STEM） | 第26-27页 |
| ·催化剂的紫外可见漫反射分析（UV-vis DRS） | 第27页 |
| ·催化剂的程序升温还原分析（TPR） | 第27页 |
| ·催化剂活性评价 | 第27-28页 |
| ·助剂对催化剂活性的影响 | 第28-32页 |
| ·不同助剂对催化剂活性的影响 | 第28-29页 |
| ·助剂二氧化铈的添加量对催化剂活性的影响 | 第29-32页 |
| ·催化剂的表征结果 | 第32-42页 |
| ·催化剂的物理化学性质 | 第32-33页 |
| ·反应前催化剂的 X-射线衍射表征 | 第33-34页 |
| ·催化剂的透射电子显微镜表征 | 第34-36页 |
| ·催化剂的高角度环形暗场扫描透射表征 | 第36-37页 |
| ·催化剂的紫外可见漫反射表征 | 第37-38页 |
| ·催化剂的程序升温还原表征 | 第38-39页 |
| ·反应后催化剂的 X-射线衍射表征 | 第39-40页 |
| ·反应后催化剂的透射电子显微镜表征 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 活性组分粒径对 Ni/SiO_2催化剂活性的影响研究 | 第43-68页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·催化剂的制备 | 第44页 |
| ·催化剂的活性研究 | 第44-48页 |
| ·氯化镍前驱体对催化剂活性的影响 | 第44-45页 |
| ·硝酸镍前驱体对催化剂活性的影响 | 第45-46页 |
| ·醋酸镍前驱体对催化剂活性的影响 | 第46页 |
| ·柠檬酸镍前驱体对催化剂活性的影响 | 第46-47页 |
| ·乙酰丙酮镍前驱体对催化剂活性的影响 | 第47-48页 |
| ·催化剂的表征结果 | 第48-66页 |
| ·催化剂的程序升温还原表征（TPR） | 第48-51页 |
| ·NiCl2/SiO_2催化剂的 TPR 表征 | 第48-49页 |
| ·Ni（NO3）2/SiO_2催化剂的 TPR 表征 | 第49页 |
| ·Ni（CH3COO）2/SiO_2催化剂的 TPR 表征 | 第49-50页 |
| ·NiCA/SiO_2催化剂的 TPR 表征 | 第50页 |
| ·Ni（acac）2/SiO_2催化剂的 TPR 表征 | 第50-51页 |
| ·焙烧后催化剂的 X-射线衍射表征（XRD） | 第51-56页 |
| ·焙烧后 NiCl2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第51-52页 |
| ·焙烧后 Ni（NO3）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第52-53页 |
| ·焙烧后 Ni（CH3COO）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第53页 |
| ·焙烧后 NiCA/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第53-54页 |
| ·焙烧后 Ni（acac）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第54-55页 |
| ·NiO 尺寸大小与甲烷转化率的关系 | 第55-56页 |
| ·还原后催化剂的 X-射线衍射表征（XRD） | 第56-60页 |
| ·还原后 NiCl2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第56-57页 |
| ·还原后 Ni（NO3）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第57页 |
| ·还原后 Ni（CH3COO）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第57-58页 |
| ·还原后 NiCA/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第58-59页 |
| ·还原后 Ni（acac）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第59-60页 |
| ·反应后催化剂的 X-射线衍射表征（XRD） | 第60-64页 |
| ·反应后 NiCl2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第60页 |
| ·反应后 Ni（NO3）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第60-61页 |
| ·反应后 Ni（CH3COO）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第61-62页 |
| ·反应后 NiCA/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第62-63页 |
| ·反应后 Ni（acac）2/SiO_2催化剂的 XRD 表征 | 第63页 |
| ·Ni 尺寸大小与甲烷终止转化率的关系 | 第63-64页 |
| ·催化剂的比表面积 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 结论与展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 附件 | 第82页 |
