| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-45页 |
| ·引言 | 第15-18页 |
| ·石墨烯/金属界面的研究进展 | 第18-26页 |
| ·石墨烯/金属的形貌及界面相互作用研究 | 第18-24页 |
| ·石墨烯/金属的界面相互作用调控 | 第24-26页 |
| ·石墨烯的电子结构调控研究进展 | 第26-28页 |
| ·氧化石墨烯的电子结构调控及其纳米复合物研究进展 | 第28-31页 |
| ·氧化石墨烯的还原研究 | 第28-29页 |
| ·氧化石墨烯纳米复合物的研究 | 第29-31页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第31-33页 |
| ·选题背景 | 第31-32页 |
| ·研究内容 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-45页 |
| 第二章 实验方法和原理 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·同步辐射 | 第45-46页 |
| ·软X射线谱学基本原理 | 第46-53页 |
| ·光电激发及退激发过程 | 第46-47页 |
| ·近边X射线吸收精细结构(NEXAFS) | 第47-50页 |
| ·X射线发射谱(XES) | 第50-52页 |
| ·共振非弹性X射线散射(RIXS) | 第52-53页 |
| ·光电子能谱的基本原理 | 第53-56页 |
| ·实验装置介绍 | 第56-58页 |
| ·美国先进光源(ALS)及先进X射线散射非弹性实验站(AXIS) | 第56-57页 |
| ·合肥国家同步辐射实验室(NSRL)及光电子能谱实验站 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 第三章 石墨烯/金属界面相互作用的研究 | 第61-83页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验部分 | 第61-63页 |
| ·石墨烯样品的制备 | 第61-62页 |
| ·石墨烯样品的测量 | 第62-63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-76页 |
| ·Graphene/Cu界面研究 | 第63-71页 |
| ·Graphene/Ni界面研究 | 第71-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 第四章 Li在graphene/Cu界面的插层反应研究 | 第83-97页 |
| ·引言 | 第83-84页 |
| ·实验部分 | 第84-85页 |
| ·结果与讨论 | 第85-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 第五章 Graphene/SiO_2的软X射线谱学及第一性原理研究 | 第97-111页 |
| ·引言 | 第97-98页 |
| ·实验与计算方法 | 第98页 |
| ·结果与讨论 | 第98-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-111页 |
| 第六章 氧化石墨烯的电子结构调控 | 第111-141页 |
| ·氧化石墨烯的基本电子结构 | 第111-116页 |
| ·引言 | 第111页 |
| ·实验部分 | 第111-112页 |
| ·结果与讨论 | 第112-115页 |
| ·小结 | 第115-116页 |
| ·氧化石墨烯的N掺杂研究 | 第116-124页 |
| ·引言 | 第116-117页 |
| ·实验部分 | 第117-118页 |
| ·结果与讨论 | 第118-123页 |
| ·小结 | 第123-124页 |
| ·GO-S纳米复合物的制备、电子结构及应用 | 第124-134页 |
| ·引言 | 第124-125页 |
| ·实验部分 | 第125-126页 |
| ·结果与讨论 | 第126-133页 |
| ·小结 | 第133-134页 |
| 参考文献 | 第134-141页 |
| 第七章 结论与展望 | 第141-145页 |
| ·全文总结 | 第141-142页 |
| ·展望 | 第142-145页 |
| 致谢 | 第145-147页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第147-150页 |
