| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·太阳能电池现状及其发展前景 | 第10页 |
| ·多层Ge-ncs及Cu_2O薄膜在太阳能电池中的应用 | 第10-13页 |
| ·用超晶格方法制各Ge-ncs的优势 | 第10-11页 |
| ·Ge-ncs中的量子限域效应 | 第11-12页 |
| ·多层Ge-ncs在太阳能电池中的应用 | 第12页 |
| ·Cu_2O薄膜在太阳能电池中的应用 | 第12-13页 |
| ·本论文研究的主要内容和意义 | 第13-16页 |
| 第2章 薄膜材料的制备与表征 | 第16-26页 |
| ·薄膜材料的制备方法 | 第16-19页 |
| ·薄膜制备的化学方法 | 第16-18页 |
| ·薄膜制备的物理方法 | 第18-19页 |
| ·薄膜材料的表征技术 | 第19-26页 |
| ·成分分析 | 第20页 |
| ·结构测定 | 第20-23页 |
| ·形貌观察与分析 | 第23-26页 |
| 第3章 椭圆偏振光谱法 | 第26-32页 |
| ·椭偏测量术的产生背景和研究进展 | 第26-28页 |
| ·椭偏测量术的产生背景 | 第26-27页 |
| ·椭偏测量术的研究进展 | 第27-28页 |
| ·椭偏测量术的优势 | 第28页 |
| ·椭偏测量术的应用 | 第28-29页 |
| ·椭偏测量术的原理 | 第29-32页 |
| 第4章 多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)的制备及特性研究 | 第32-46页 |
| ·多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)的制备 | 第32-33页 |
| ·退火对多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)结构的影响 | 第33-38页 |
| ·退火温度对多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)结构的影响 | 第33-35页 |
| ·退火时间对多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)结构的影响 | 第35-38页 |
| ·多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)的结构特性分析 | 第38-40页 |
| ·XRD测试结果及分析 | 第38页 |
| ·TEM测试结果及分析 | 第38-40页 |
| ·多层Ge-ncs/(SiO_2+GeO_2)的的光学特性的椭偏分析 | 第40-45页 |
| ·折射率和消光系数的分析 | 第40-41页 |
| ·光学透射率和反射率分析 | 第41-42页 |
| ·介电函数分析 | 第42-43页 |
| ·吸收特性和多层Ge-ncs光学带隙的分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 多层Ge-ncs/SiOxGeNy的制备及特性研究 | 第46-56页 |
| ·多层Ge-ncs/SiOxGeNy的制备 | 第46-47页 |
| ·多层Ge-ncs/SiOxGeNy的结构特性分析 | 第47-48页 |
| ·XRD测试结果及分析 | 第47页 |
| ·TEM测试结果及分析 | 第47-48页 |
| ·多层Ge-ncs/SiOxGeNy的的光学特性的椭偏分析 | 第48-54页 |
| ·折射率和消光系数的分析 | 第48-50页 |
| ·光学透射率和反射率分析 | 第50-51页 |
| ·介电函数分析 | 第51-52页 |
| ·吸收特性和多层Ge-ncs光学带隙的分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第6章 氧化亚铜(Cu_2O)薄膜的制备与特性研究 | 第56-64页 |
| ·室温CuCl_2溶液中氧化亚铜薄膜的制备 | 第56页 |
| ·通过改变浸润时间制备Cu_2O薄膜 | 第56页 |
| ·通过改变CuCl_2溶液的浓度制备Cu_2O薄膜 | 第56页 |
| ·在浓度为10~(-1)M的CuCl_2溶液中制备Cu_2O薄膜的特性研究 | 第56-59页 |
| ·XRD测试与分析 | 第56-57页 |
| ·SEM分析 | 第57-58页 |
| ·PL测试与分析 | 第58-59页 |
| ·室温CuCl_2溶液中完全浸润6h制备的Cu_2O薄膜的特性研究 | 第59-64页 |
| ·XRD测试与分析 | 第59-60页 |
| ·SEM分析 | 第60-61页 |
| ·PL测试与分析 | 第61-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第72页 |
