| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| ·光通信网络系统对波长可调谐/切换激光器的需求 | 第14-15页 |
| ·数字式波长切换的优点和应用需求 | 第15-17页 |
| ·波长可切换激光器的原理结构,研究现状 | 第17-25页 |
| ·本论文的主要研究内容及创新点 | 第25-28页 |
| ·本论文的章节安排 | 第25-26页 |
| ·本论文的创新点 | 第26-28页 |
| 第二章 V型耦合腔波长可切换激光器的设计 | 第28-57页 |
| ·V型耦合腔激光器的基本结构和工作原理 | 第28-44页 |
| ·基本组成部分和游标效应的应用 | 第28-32页 |
| ·V型耦合腔激光器的阈值条件分析及半波耦合器的作用 | 第32-44页 |
| ·V型耦合腔激光器的波长切换机理 | 第44-48页 |
| ·热调谐机理分析 | 第44-46页 |
| ·电注入调谐机理分析 | 第46-48页 |
| ·量子阱结构的讨论和波导结构的优化设计 | 第48-57页 |
| ·量子阱结构的讨论 | 第48-50页 |
| ·波导尺寸和弯曲损耗的讨论和设计 | 第50-54页 |
| ·半波耦合器的优化设计 | 第54-57页 |
| 第三章 V型耦合腔激光器的制作工艺分析和具体器件制作流程 | 第57-96页 |
| ·总体制作工艺流程介绍 | 第57页 |
| ·光刻工艺的优化 | 第57-61页 |
| ·刻蚀工艺的优化 | 第61-81页 |
| ·干法和湿法刻蚀的比较 | 第61-62页 |
| ·感应耦合等离子体干法刻蚀介绍 | 第62-65页 |
| ·波导掩模刻蚀的讨论和工艺优化 | 第65-71页 |
| ·波导/反射面刻蚀的分析和工艺优化 | 第71-81页 |
| ·平坦化工艺介绍和方案比较 | 第81-87页 |
| ·几种平坦化方法的比较和具体选择 | 第81-83页 |
| ·SU8/二氧化硅双层材料平坦化 | 第83-85页 |
| ·SU8及BCB的材料平坦化 | 第85-87页 |
| ·金属电极及后续工艺 | 第87-91页 |
| ·欧姆接触原理 | 第87-88页 |
| ·金属溅射和退火工艺 | 第88-90页 |
| ·减薄和抛光 | 第90-91页 |
| ·V型耦合腔激光器制作流程 | 第91-96页 |
| ·解理面结构V型耦合腔激光器的制作流程图和最终器件 | 第91-93页 |
| ·刻蚀面结构V型耦合腔激光器的制作流程图和最终器件 | 第93-96页 |
| 第四章 V型耦合腔波长可切换激光器的器件性能测试及分析 | 第96-131页 |
| ·器件测试平台介绍 | 第96-98页 |
| ·测试平台组成 | 第96-97页 |
| ·器件前期测试步骤 | 第97-98页 |
| ·解理面结构V型耦合腔激光器的器件性能测试和结果分析 | 第98-104页 |
| ·解理面结构V型耦合腔激光器的实际结构 | 第98-99页 |
| ·测试结果以及分析 | 第99-104页 |
| ·刻蚀面结构V型耦合腔激光器的器件性能测试和结果分析 | 第104-126页 |
| ·刻蚀面激光器的实际器件结构和两种调谐机理的分析 | 第104-107页 |
| ·热效应波长切换性能测试 | 第107-121页 |
| ·载流子注入效应波长切换性能测试 | 第121-126页 |
| ·V型耦合腔激光器线宽参数测量和量子阱混合技术的引入 | 第126-131页 |
| ·激光器线宽的测量 | 第126-128页 |
| ·量子阱混合技术的介绍及初步实验结果 | 第128-131页 |
| 第五章 总结及进一步工作展望 | 第131-134页 |
| ·总结 | 第131-132页 |
| ·进一步工作展望 | 第132-134页 |
| 作者简介 | 第134-136页 |
| 个人简介 | 第134页 |
| 博士在读期间发表的论文和专利情况 | 第134-136页 |
| 参考文献 | 第136-147页 |
