| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·课题的背景及意义 | 第9-10页 |
| ·激光钕玻璃棒的加工 | 第10-13页 |
| ·激光钕玻璃晶体的特点 | 第10页 |
| ·激光钕玻璃棒光学加工的特点 | 第10-11页 |
| ·激光钕玻璃棒的传统加工方法 | 第11-12页 |
| ·激光钕玻璃棒的磁流变抛光加工 | 第12-13页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第13-15页 |
| 2 磁流变抛光的加工机理及设备结构 | 第15-25页 |
| ·抛光的材料去除机理概述 | 第15-16页 |
| ·机械磨削作用 | 第15-16页 |
| ·化学作用 | 第16页 |
| ·流变理论 | 第16页 |
| ·激光钕玻璃棒的磁流变抛光材料去除机理 | 第16-21页 |
| ·磁流变抛光的材料去除机理 | 第16-17页 |
| ·磁流变抛光的材料去除模型 | 第17-21页 |
| ·磁流变抛光的元件表面粗糙度基本理论 | 第21页 |
| ·磁流变抛光机床的介绍 | 第21-24页 |
| ·加工机床结构 | 第21-22页 |
| ·元件夹具结构 | 第22-23页 |
| ·循环系统 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 钕玻璃棒磁流交加工中抛光液及抛光工艺研究 | 第25-37页 |
| ·用于加工钕玻璃棒的磁流变液 | 第25-29页 |
| ·磁流变液的研究状况 | 第25-27页 |
| ·对磁流变液长周期加工时间段内性能的监测 | 第27-29页 |
| ·工艺参数对磁流变抛光的影响 | 第29-35页 |
| ·抛光轮转速对抛光效率及元件表面粗糙度的影响 | 第30-31页 |
| ·浸入深度对抛光效率以及元件表面粗糙度的影响 | 第31-32页 |
| ·磁场强度对抛光效率及元件表面粗糙度的影响 | 第32页 |
| ·磁流变液中水分含量的影响(重量比) | 第32-35页 |
| ·上述重要工艺参数影响规律分析 | 第35-37页 |
| 4 激光钕玻璃棒的加工实验 | 第37-50页 |
| ·计算机控制表面成形技术 | 第37-39页 |
| ·CCOS表面成形技术的基本原理 | 第37-38页 |
| ·磁流变抛光CCOS技术的数学模型 | 第38-39页 |
| ·驻留时间迭代算法 | 第39页 |
| ·钕玻璃棒透射波前位相补偿加工技术 | 第39-41页 |
| ·激光钕玻璃棒透射波前畸变 | 第39-40页 |
| ·传统加工修正波前畸变的方法 | 第40-41页 |
| ·波前补偿思想结合磁流变抛光进行波前畸变修正 | 第41页 |
| ·钕玻璃棒的磁流变抛光加工实验 | 第41-50页 |
| ·钕玻璃棒透射波前的检测 | 第41-43页 |
| ·钕玻璃棒初始面型及波前畸变检测 | 第43-45页 |
| ·钕玻璃棒的磁流变抛光研究 | 第45-47页 |
| ·磁流变抛光钕玻璃棒实验中抛光斑选取的依据以及精度分析 | 第47-48页 |
| ·磁流变抛光钕玻璃棒实验总结 | 第48-50页 |
| 5 总结和展望 | 第50-52页 |
| ·全文总结 | 第50-51页 |
| ·研究展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |