| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 掺铜ZnO薄膜材料研究综述 | 第8-12页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·氧化锌材料的结构和性质 | 第9页 |
| ·掺铜ZnO薄膜的性质及应用 | 第9-10页 |
| ·掺铜ZnO薄膜的研究进展 | 第10页 |
| ·本课题研究的主要内容与意义 | 第10-12页 |
| 第二章 掺铜ZnO薄膜的制备方法和表征手段 | 第12-20页 |
| ·掺铜ZnO薄膜的制备方法简介 | 第12-13页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第13-16页 |
| ·掺铜ZnO薄膜的制备过程 | 第16-17页 |
| ·掺铜ZnO薄膜的测量手段 | 第17-20页 |
| 第三章 生长参数对掺铜ZnO薄膜结构和光学性质的影响 | 第20-30页 |
| ·引言 | 第20-21页 |
| ·衬底温度对掺铜ZnO薄膜结构及表面形貌的影响 | 第21-23页 |
| ·生长氧压对掺铜ZnO薄膜结构及光学性质的影响 | 第23-26页 |
| ·退火温度对掺铜ZnO薄膜结构及光学性质的影响 | 第26-28页 |
| ·小结 | 第28-30页 |
| 第四章 掺铜ZnO薄膜制备研究方向 | 第30-33页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·研究方向 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 全文总结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-40页 |
| 发表论文 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41页 |