| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·半导体光催化的基本原理 | 第13-14页 |
| ·半导体光催化剂的研究进展 | 第14-23页 |
| ·传统半导体光催化剂可见光响应的研究进展 | 第15-19页 |
| ·新型半导体光催化剂的研究进展 | 第19-23页 |
| ·铋系光催化剂 | 第23-27页 |
| ·Bi_2O_3催化剂 | 第23页 |
| ·钛酸铋系催化剂 | 第23-24页 |
| ·BiOX（X=Cl、Br、I）系催化剂 | 第24页 |
| ·钒酸铋催化剂 | 第24页 |
| ·钼酸铋催化剂 | 第24-25页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂 | 第25-27页 |
| ·Bi_2WO_6光催化剂制备工艺 | 第27-29页 |
| ·固相反应法 | 第27页 |
| ·水热法/溶剂热法 | 第27-28页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第28页 |
| ·超声波合成法 | 第28页 |
| ·微波合成法 | 第28-29页 |
| ·本论文研究目的与主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验方法与实验仪器 | 第31-36页 |
| ·材料合成 | 第31-32页 |
| ·实验主要原料 | 第31页 |
| ·水热法合成具有层次结构的Bi_2WO_6和Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6复合氧化物 | 第31-32页 |
| ·材料表征方法 | 第32-33页 |
| ·物相表征 | 第32页 |
| ·表面形貌分析 | 第32页 |
| ·微结构及元素分布分析 | 第32-33页 |
| ·比表面积测试和孔径分布分析 | 第33页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第33页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第33页 |
| ·光催化性能测试 | 第33-36页 |
| ·光催化反应装置 | 第33-34页 |
| ·光催化实验方法和步骤 | 第34页 |
| ·光催化反应的评价 | 第34-36页 |
| ·紫外可见光响应评价 | 第34-35页 |
| ·光催化效率评价 | 第35-36页 |
| 第三章 Bi_2WO_6光催化剂的可控合成、形态特性和可见光催化性能 | 第36-47页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的结构与表面形貌 | 第37-46页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的晶型与分子结构分析 | 第37-39页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的形貌分析 | 第39-40页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的光吸收性能和光催化性能 | 第40-43页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的微观结构与光催化性能之间关联分析 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 水热法原位构筑Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6复合半导体及可见光催化性能 | 第47-64页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·复合半导体的结构、形貌以及生长机理分析 | 第48-56页 |
| ·Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6的XRD分析 | 第48-49页 |
| ·Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6的SEM分析 | 第49-51页 |
| ·Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6的TEM以及EDX分析 | 第51-54页 |
| ·Bi_2O_2CO_3/Bi_2WO_6的生长机理探讨 | 第54-56页 |
| ·复合半导体的光吸收性能以及光催化性能及机理研究 | 第56-62页 |
| ·光吸收性能和光催化性能 | 第56-60页 |
| ·光催化机理研究 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-67页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 附录Ⅰ 硕士生学习期间完成的论文 | 第74-76页 |
| 附录Ⅱ 致谢 | 第76页 |
