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掺杂对铋层状化合物CaBi4Ti4O15微结构的影响

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·压电材料概述第11-13页
     ·钙钛矿结构第12-13页
   ·奥利斯维里斯相的结构第13-14页
   ·铋层状压电陶瓷的压电性能以及改性第14-18页
     ·工艺改性第15-16页
     ·掺杂改性第16-18页
   ·铋层状压电陶瓷的压电铁电性能第18-21页
     ·铋层状化合物的疲劳性能第19-20页
     ·铋层状铁电陶瓷的剩余极化强度第20页
     ·铋层状压电陶瓷的机械耦合系数第20-21页
   ·铋层状压电铁电陶瓷的应用第21-23页
第二章 正电子湮没谱学第23-33页
   ·前沿第23-24页
   ·正电子动力学第24-27页
     ·正电子的热化第24-25页
     ·正电子的注入深度第25页
     ·正电子在固体中的扩散第25-27页
   ·正电子湮没试验方法第27-33页
     ·电子湮没寿命谱第28-30页
     ·多普勒展宽谱测量第30-33页
第三章 实验方法第33-37页
   ·引言第33页
   ·实验设备第33页
   ·样品制备第33-36页
     ·样品的配方第34-35页
     ·实验样品制备过程第35-36页
   ·微观结构以及组织结构测试第36-37页
第四章 铋层状化合物CaBi_(4-x)La_xTi_(4-y)M_yO_(15)的结构以及组织形貌第37-43页
   ·引言第37页
   ·组织形貌第37-42页
     ·CaBi_4Ti_(4-x)MxO_(15)系列样品的结构以及组织图第37-40页
     ·CaBi_(4-x)La_xTi_4O_(15)系列样品的结构以及组织图第40-42页
   ·本章小结第42-43页
第五章 铋层状化合物CaBi_(4-x)N_xTi_(4-y)M_yO_(15)微结构研究第43-55页
   ·引言第43-44页
   ·掺杂影响的正电子湮没研究第44-54页
     ·压电陶瓷CaBi_(4-x)La_xTi_4O_(15)的正电子湮没研究第45-49页
     ·压电陶瓷CaBi_4Ti_(4-x)Nb_xO_(15)的正电子湮没研究第49-52页
     ·压电陶瓷CaBi_4Ti_(4-x)Zr_xO_(15)的正电子湮没研究第52-54页
   ·本章小结第54-55页
第六章 论文总结第55-56页
参考文献第56-62页
致谢第62-63页
硕士期间发表论文第63页

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