| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·几种电光调制器简介 | 第8-9页 |
| ·硅基电光调制器发展概述 | 第9-10页 |
| ·本文的工作 | 第10-12页 |
| 2 硅基电光调制器的理论基础 | 第12-21页 |
| ·自由载流子等离子色散效应 | 第12-14页 |
| ·载流子浓度调制方式 | 第14-17页 |
| ·硅基电光调制器的几种光学结构 | 第17-18页 |
| ·Mach-Zehnder 干涉型硅基电光调制器 | 第18-19页 |
| ·主要性能参数 | 第19-21页 |
| 3 硅基电光调制器参数对性能影响的研究 | 第21-31页 |
| ·仿真软件介绍 | 第21-22页 |
| ·载流子注入式硅基电光调制器 | 第22-25页 |
| ·载流子耗尽式硅基电光调制器 | 第25-27页 |
| ·MOS电容式电光调制器 | 第27-31页 |
| 4 高K栅介质层MOS电容式硅基电光调制器的研究与设计 | 第31-48页 |
| ·栅介质层介电常数对器件性能的影响 | 第31-35页 |
| ·高K材料 | 第35-36页 |
| ·对称式高K栅介质层MOS电容式硅基电光调制器 | 第36-42页 |
| ·优化的传统式高K栅介质层MOS电容式硅基电光调制器 | 第42-47页 |
| ·总结 | 第47-48页 |
| 5 总结与展望 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 附录1 攻读学位期间发表论文目录 | 第54页 |