基于激光/微笔直写的静电驱动可变电容制备技术研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
1 绪论	第9-24页
·引言	第9-10页
·直写制造技术概述	第10-14页
·RF MEMS可变电容概述	第14-18页
·激光微熔覆技术及微笔沉积直写技术	第18-21页
·课题来源、研究内容、技术关键和研究路线	第21-23页
·本章小结	第23-24页
2 可变电容结构与材料体系设计	第24-37页
·可变电容结构设计与分析	第24-25页
·材料体系设计	第25-29页
·实验材料性能参数	第29-31页
·相关实验设备	第31-36页
·本章小结	第36-37页
3 可变电容底电极图形制作工艺研究	第37-49页
·前言	第37页
·基于激光微熔覆电子浆料工艺制作电极图形	第37-39页
·激光微熔覆电子浆料膜层质量的工艺控制规律	第39-48页
·本章小结	第48-49页
4 可变电容结构制造工艺与性能分析	第49-60页
·前言	第49-50页
·可变电容结构的制造过程	第50-53页
·平行板式可变电容电学模型分析	第53-56页
·平行板式静电驱动可变电容的性能测试与分析	第56-59页
·本章小结	第59-60页
5 全文结论与展望	第60-61页
·本文主要结论	第60页
·问题与展望	第60-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-65页