| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·研究背景 | 第11-12页 |
| ·纳米材料概述 | 第12-13页 |
| ·纳米材料简介 | 第12页 |
| ·纳米材料的特点 | 第12-13页 |
| ·纳米复合镀层概述 | 第13-21页 |
| ·纳米复合镀简介 | 第13页 |
| ·纳米复合镀层的研究现状及应用 | 第13-19页 |
| ·纳米微粒在复合镀层中的作用机理 | 第19-21页 |
| ·研究目标、内容及意义 | 第21-22页 |
| ·研究目标 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-22页 |
| ·研究意义 | 第22页 |
| ·本文研究的技术路线 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-24页 |
| 第二章 分形理论 | 第24-32页 |
| ·分形（fractal）的概念 | 第24页 |
| ·分形对象的特征 | 第24-26页 |
| ·自相似性 | 第24-25页 |
| ·自仿射性 | 第25-26页 |
| ·标度不变性 | 第26页 |
| ·分形维数 | 第26-27页 |
| ·分形的测度——分维 | 第26-27页 |
| ·分形维数的测定方法 | 第27页 |
| ·表面形貌的分形表征 | 第27-31页 |
| ·统计学参数 | 第27-28页 |
| ·表面粗糙度指数 | 第28页 |
| ·用分形理论表征镀层表面形貌的提出 | 第28-29页 |
| ·表面形貌分形维数的求算方法——投影覆盖法 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 镀层的制备过程及性能测试方法 | 第32-44页 |
| ·材料的选择 | 第32-33页 |
| ·基体材料及尺寸 | 第32页 |
| ·基质金属的选择 | 第32-33页 |
| ·纳米微粒的选择 | 第33页 |
| ·实验药品及仪器 | 第33-34页 |
| ·工艺流程 | 第34-39页 |
| ·基体前处理 | 第34-36页 |
| ·基体后处理 | 第36页 |
| ·复合镀液组成及作用 | 第36-37页 |
| ·复合镀液配置流程 | 第37-38页 |
| ·实验装置 | 第38页 |
| ·制备镍基 SiO_2纳米复合镀层的复合电沉积流程 | 第38-39页 |
| ·性能测试方法 | 第39-42页 |
| ·镀层厚度的测定 | 第39-40页 |
| ·镀速的确定 | 第40页 |
| ·镀层质量的判定 | 第40-41页 |
| ·镀层形貌及元素含量的测定 | 第41页 |
| ·镀层硬度的测定 | 第41-42页 |
| ·本章小节 | 第42-44页 |
| 第四章 复合镀的工艺优化 | 第44-56页 |
| ·影响镀镍的主要工艺参数研究 | 第44-46页 |
| ·SiO_2粒子悬浮量 | 第44-45页 |
| ·电流密度 | 第45页 |
| ·镀液 pH 值 | 第45-46页 |
| ·镀液中主盐硫酸镍含量 | 第46页 |
| ·镀液中表面活性剂含量 | 第46页 |
| ·复合电沉积镍基 SiO_2纳米复合镀层的工艺优化 | 第46-55页 |
| ·正交试验表头设计 | 第47页 |
| ·正交试验结果 | 第47-51页 |
| ·正交试验结果分析 | 第51-54页 |
| ·正交试验结果验证 | 第54-55页 |
| ·本章小节 | 第55-56页 |
| 第五章 基于投影覆盖法的镀层表面分形研究 | 第56-68页 |
| ·投影覆盖法的 MATLAB 实现 | 第56-58页 |
| ·投影覆盖法的实现流程图 | 第56-57页 |
| ·Matlab 主体程序设计 | 第57-58页 |
| ·基于投影覆盖法的镀层表面形貌的分形表征 | 第58-67页 |
| ·Ni-SiO_2复合镀层的制备 | 第58-59页 |
| ·镀液中颗粒浓度对电沉积速率和显微硬度的影响 | 第59-61页 |
| ·Ni-SiO_2复合镀层的表面形貌 SEM 图像 | 第61-62页 |
| ·镀层表面形貌分形维数求算结果 | 第62-64页 |
| ·镀层真实表面积与表面分形维数的关系 | 第64-65页 |
| ·表面分形维数与镀层显微硬度的关系 | 第65-67页 |
| ·本章小节 | 第67-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 研究结论 | 第68页 |
| 创新点 | 第68-69页 |
| 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 附件 | 第76页 |
