| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的研究概况 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第11-15页 |
| ·液相法 | 第11-13页 |
| ·气相法 | 第13-14页 |
| ·固相法 | 第14-15页 |
| ·自组装技术 | 第15页 |
| ·模板合成法 | 第15页 |
| ·纳米材料的特性 | 第15-18页 |
| ·量子尺寸效应 | 第16页 |
| ·表面效应 | 第16-17页 |
| ·小尺寸效应 | 第17页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第17页 |
| ·库仑堵塞与量子隧穿 | 第17-18页 |
| ·介电限域效应 | 第18页 |
| ·纳米材料的应用 | 第18-19页 |
| ·本论文研究目的和内容 | 第19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 水热法制备 ZnO纳米材料 | 第21-35页 |
| ·水热法简介 | 第21-22页 |
| ·水热法原理 | 第22页 |
| ·水热合成特点 | 第22页 |
| ·实验样品的制备 | 第22-24页 |
| ·化学试剂 | 第22-23页 |
| ·合成方法 | 第23页 |
| ·产物表征 | 第23-24页 |
| ·氧化锌纳米材料的表征与性能研究 | 第24-33页 |
| ·Fe掺杂氧化锌纳米材料的表征与性能研究 | 第24-27页 |
| ·氧化锌阵列的表征与性能研究 | 第27-33页 |
| ·本章小结 | 第33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 第三章 热氧化制备CuO纳米线和水热制备CuO纳米片 | 第35-46页 |
| ·纳米氧化铜的制备过程 | 第35-36页 |
| ·纳米氧化铜表征手段 | 第36页 |
| ·氧化铜纳米线的表征 | 第36-41页 |
| ·片状氧化铜的表征 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第四章 TiAlN薄膜结构及摩擦性能研究 | 第46-62页 |
| ·射频反应磁控溅射法原理 | 第46-49页 |
| ·射频溅射原理 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射原理 | 第47-48页 |
| ·反应溅射原理 | 第48-49页 |
| ·溅射成膜的特征 | 第49-52页 |
| ·反应溅射原理 | 第49页 |
| ·溅射镀膜的成膜机理 | 第49-50页 |
| ·溅射膜的成分与结构 | 第50-52页 |
| ·TiAlN的结构、应能和应用 | 第52-54页 |
| ·TiAlN的结构 | 第52-53页 |
| ·TiAlN的涂层的应用 | 第53-54页 |
| ·TiAlN涂层的表征与性能研究 | 第54-59页 |
| ·TiAlN涂层的制备过程 | 第54-55页 |
| ·TiAlN涂层的表征手段 | 第55页 |
| ·TiAlN涂层的表征与性能研究 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第五章 主要结论 | 第62-63页 |
| 学术论文发表情况 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |