Fe/Ge纳米多层膜的结构、磁性质和输运特性
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-28页 |
| ·研究背景 | 第8-26页 |
| ·自旋电子学 | 第8-9页 |
| ·纳米磁性多层膜 | 第9-16页 |
| 1 磁性多层膜的制备 | 第10-12页 |
| 2 磁性多层膜的磁电阻效应 | 第12-13页 |
| 3 磁性多层膜的霍尔效应 | 第13-16页 |
| ·纳米磁性颗粒膜 | 第16-21页 |
| 1 颗粒膜的结构 | 第16-17页 |
| 2 经典逾渗阈值x_c与量子逾渗阈值x_q | 第17页 |
| 3 颗粒膜的制备 | 第17-18页 |
| 4 颗粒膜的磁电阻 | 第18-20页 |
| 5 颗粒膜的霍尔效应 | 第20-21页 |
| ·金属半导体复合结构 | 第21-26页 |
| 1 半导体上生长的Fe 膜 | 第22-24页 |
| 2 Fe_xGe_(1-x)薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
| 3 Fe_xGe_(1-x) 合金 | 第25-26页 |
| ·存在的问题 | 第26-27页 |
| ·Fe/Ge 纳米多层膜研究中存在的问题 | 第26-27页 |
| ·Fe_xGe_(1-x) 合金研究中存在的问题 | 第27页 |
| ·本论文的工作 | 第27-28页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征与物性测量 | 第28-34页 |
| ·Fe/Ge 纳米多层膜的制备 | 第28-31页 |
| ·Fe/Ge 多层膜的制备 | 第29-30页 |
| ·Fe/Ge 间断膜的制备 | 第30页 |
| ·Fe/Ge 多层膜的退火处理 | 第30-31页 |
| ·Fe/Ge 纳米多层膜的表征 | 第31-34页 |
| ·结构表征 | 第31-32页 |
| ·磁性测量 | 第32-33页 |
| ·电输运性质 | 第33-34页 |
| 第三章 Fe/Ge 多层膜的结构、磁性和输运性质 | 第34-59页 |
| ·结构表征 | 第34-41页 |
| ·小角度X 射线衍射（LAXD）分析 | 第34-38页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第38-40页 |
| ·高分辨透射电镜（HRTEM）分析 | 第40-41页 |
| ·磁性测量 | 第41-44页 |
| ·电输运性质 | 第44-54页 |
| ·电阻率 | 第44-47页 |
| ·磁电阻 | 第47-48页 |
| ·霍尔效应 | 第48-54页 |
| ·退火对Fe/Ge 多层膜的结构和输运性质的影响 | 第54-58页 |
| ·退火对结构的影响 | 第54-56页 |
| ·退火对输运性质的影响 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 Fe/Ge 间断膜的结构、磁性和输运性质 | 第59-72页 |
| ·结构表征 | 第59-61页 |
| ·磁性测量 | 第61-63页 |
| ·电输运性质 | 第63-71页 |
| ·电阻率 | 第63-66页 |
| ·磁电阻 | 第66-68页 |
| ·霍尔效应 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
