| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-17页 |
| ·气体分离方法的种类与特征 | 第6-7页 |
| ·深冷分离法 | 第6-7页 |
| ·变压吸附法 | 第7页 |
| ·膜分离法 | 第7页 |
| ·碳膜简介 | 第7-8页 |
| ·碳膜的特性 | 第7-8页 |
| ·分离性能与制备条件相关 | 第8页 |
| ·碳膜吸附性能 | 第8页 |
| ·碳膜的制备方法 | 第8-11页 |
| ·前驱体选择 | 第9页 |
| ·高分子膜成型方法 | 第9页 |
| ·预处理 | 第9-10页 |
| ·碳化条件 | 第10页 |
| ·碳膜的后处理 | 第10页 |
| ·膜组件 | 第10-11页 |
| ·碳膜的气体分离机理 | 第11-12页 |
| ·碳膜的分类及结构 | 第12-15页 |
| ·平板膜（支撑/无支撑） | 第12-13页 |
| ·管状碳膜 | 第13-15页 |
| ·碳膜的应用 | 第15页 |
| ·气体分离 | 第15页 |
| ·液体分离 | 第15页 |
| ·膜反应器 | 第15页 |
| ·未来碳膜的开发和前景 | 第15-16页 |
| ·本实验的选题背景，主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 实验部分 | 第17-23页 |
| ·实验材料 | 第17页 |
| ·药品 | 第17页 |
| ·支撑体 | 第17页 |
| ·仪器 | 第17页 |
| ·碳膜的制备 | 第17-23页 |
| ·支撑体的修饰 | 第17-18页 |
| ·高分子膜的制备 | 第18-19页 |
| ·碳膜制备 | 第19-20页 |
| ·修饰陶瓷管、碳膜气体渗透率测定 | 第20-22页 |
| ·膜的表征 | 第22-23页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第23-45页 |
| ·不同高分子膜制备方法的比较 | 第23-24页 |
| ·不同升温速率影响 | 第24-27页 |
| ·不同碳化制膜方法对渗透率影响 | 第27-36页 |
| ·高聚物直接碳化制备碳膜 | 第27-28页 |
| ·高聚物碳化和NI 催化CH_4 裂解相结合制备碳膜 | 第28-29页 |
| ·前驱体红外光谱分析 | 第29-30页 |
| ·碳膜的原子力显微镜(AFM)分析 | 第30-33页 |
| ·碳膜的透射电境（TEM）及X 衍射能谱分析 | 第33-35页 |
| ·碳膜的X 射线衍射分析 | 第35-36页 |
| ·碳膜渗透性能分析 | 第36-42页 |
| ·碳膜厚度 | 第36-37页 |
| ·渗透率与气体动力学直径的关系 | 第37页 |
| ·渗透率与温度的关系 | 第37-39页 |
| ·高温下渗透率行为 | 第39-41页 |
| ·碳膜的老化 | 第41-42页 |
| ·气体在碳膜中传质的扩散理论 | 第42-45页 |
| ·气体扩散理论 | 第42-43页 |
| ·实验结果与气体扩散理论比较 | 第43-45页 |
| 第四章 全文总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 发表论文及科研情况 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |