| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·多孔硅研究进展 | 第12-20页 |
| ·多孔硅的应用 | 第20-23页 |
| ·本论文研究目的及主要内容 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-28页 |
| 第二章 多孔硅的制备及发光性能研究 | 第28-64页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第28-30页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第30-33页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第33-35页 |
| ·实验 | 第35-39页 |
| ·装置原理图 | 第35-36页 |
| ·电极制备 | 第36页 |
| ·光致发光测量 | 第36页 |
| ·溶胶凝胶方法(Sol-Gel) | 第36-39页 |
| ·实验结果讨论 | 第39-59页 |
| ·腐蚀电流密度对多孔硅发光的影响 | 第39-42页 |
| ·硅片电阻率对多孔硅发光的影响 | 第42-46页 |
| ·退火对多孔硅发光的影响 | 第46-47页 |
| ·不通电流的湿法腐蚀得到的多孔硅的发光 | 第47-50页 |
| ·金属铁掺杂对多孔硅发光的影响 | 第50-51页 |
| ·多孔硅与其它衬底材料对薄膜发光材料发光影响的比较 | 第51-58页 |
| ·多孔硅的纳米颗粒在溶液中的发光 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第三章 稀土掺杂多孔硅的发光性能研究 | 第64-85页 |
| ·稀土发光机理 | 第64-70页 |
| ·稀土掺杂多孔硅的制备 | 第70页 |
| ·稀土掺杂对多孔硅发光的影响 | 第70-82页 |
| ·稀土(Tb、Gd)掺杂多孔硅的光致发光性能研究 | 第70-76页 |
| ·稀土掺杂多孔硅的蓝光发射(Pr、Dy、Sc稀土离子掺杂) | 第76-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 第四章 多孔硅的电学性能研究 | 第85-106页 |
| ·场电子发射原理 | 第85-89页 |
| ·硅基尖锥形阴极阵列 | 第89-91页 |
| ·弹道电子发射的多孔硅 | 第91-92页 |
| ·制备条件对场发射的影响 | 第92-96页 |
| ·具有弹道电子发射的特殊结构多孔硅的场发射 | 第93-95页 |
| ·腐蚀电流逐渐变小所制备多孔硅的场发射 | 第95-96页 |
| ·多孔硅整流特性 | 第96-103页 |
| ·整流特性的原理 | 第97-100页 |
| ·整流特性的测试装置 | 第100页 |
| ·实验结果 | 第100-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-106页 |
| 第五章 总结 | 第106-109页 |
| 附录 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110页 |