| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·多层膜研究背景 | 第9页 |
| ·多层膜研究现状与进展 | 第9-10页 |
| ·多层膜硬度的理论预测 | 第10-13页 |
| ·多层膜的机械性能 | 第13-14页 |
| ·相同结构多层膜 | 第13-14页 |
| ·异结构多层膜 | 第14页 |
| ·多层膜的摩擦学性能 | 第14-15页 |
| ·多层膜的应用 | 第15-16页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第16-17页 |
| 2 TiN／TaN纳米多层薄膜的制备及分析方法 | 第17-26页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·本论文中薄膜制备的方法 | 第17-20页 |
| ·实验设备 | 第17-20页 |
| ·实验前的基片处理 | 第20页 |
| ·薄膜分析方法 | 第20-26页 |
| ·结构表征技术 | 第20-22页 |
| ·多层膜硬度表征 | 第22-26页 |
| 3 不同调制比TiN／TaN多层膜的生长行为和力学性能的研究 | 第26-41页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·TaN单层膜的制备工艺探索 | 第26-29页 |
| ·制备TaN单层膜的目的与意义 | 第26-27页 |
| ·TaN单层膜的制备 | 第27页 |
| ·TaN单层膜的生长行为 | 第27-29页 |
| ·TiN／TaN多层膜的制备工艺 | 第29-31页 |
| ·TiN、TaN单层膜沉积率的设定 | 第29页 |
| ·TiN／TaN多层膜的制备 | 第29-31页 |
| ·TiN／TaN多层膜的表征方法 | 第31页 |
| ·TiN／TaN多层膜的结构 | 第31-38页 |
| ·TiN／TaN多层膜的小角XRD分析 | 第31-34页 |
| ·TiN／TaN多层膜的高角XRD分析 | 第34-36页 |
| ·TiN／TaN多层膜的HRTEM分析 | 第36-38页 |
| ·TiN／TaN多层膜的力学性能 | 第38-39页 |
| ·本章结论 | 第39-41页 |
| 4 不同调制周期TiN／TaN多层膜生长行为和力学性能的研究 | 第41-53页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验方法 | 第41页 |
| ·TiN／TaN多层膜的结构表征 | 第41-46页 |
| ·TiN／TaN多层膜小角XKD分析 | 第41-44页 |
| ·TiN／TaN多层膜高角XRD分析 | 第44-46页 |
| ·TiN／TaN纳米多层膜的力学行为 | 第46-52页 |
| ·TiN／TaN纳米多层膜的纳米力学性能 | 第46-49页 |
| ·TiN／TaN多层膜摩擦磨损行为 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 5 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第60页 |