| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-24页 |
| ·显示技术综述 | 第6-9页 |
| ·FED平板显示技术 | 第9-23页 |
| ·场致电子发射 | 第9-11页 |
| ·FED的结构和工作原理 | 第11-13页 |
| ·碳纳米管简介 | 第13-19页 |
| ·FED的现有成果及其展望 | 第19-23页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 碳纳米管场发射理论研究 | 第24-37页 |
| ·碳纳米管阵列理论模型 | 第25-27页 |
| ·碳纳米管周围的电势分布 | 第27-31页 |
| ·场发射电场增强因子与阵列密度的关系 | 第31-37页 |
| 第三章 碳纳米管场发射平板显示实验研究 | 第37-53页 |
| ·碳纳米管薄膜的CVD生长制备 | 第38-41页 |
| ·碳纳米管薄膜的涂覆制备 | 第41-43页 |
| ·场发射平板显示器件结构与真空观察系统 | 第43-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-53页 |
| ·CVD法制备的碳纳米管场发射阴极薄膜的实验结果及其分析 | 第46-48页 |
| ·涂覆法制备的碳纳米管场发射阴极薄膜的实验结果及其分析 | 第48-53页 |
| 结束语 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |