中文摘要 | 第1-9页 |
前言 | 第9-11页 |
第一章 文献综述 | 第11-36页 |
§1.1 酞菁的合成 | 第12-14页 |
§1.2 酞菁的晶体结构 | 第14-26页 |
§1.3 酞菁的电子结构与紫外可见光谱 | 第26-28页 |
§1.4 酞菁的红外吸收光谱 | 第28页 |
§1.5 酞菁的~1HNMR谱 | 第28-29页 |
§1.6 酞菁的热稳定性 | 第29页 |
§1.7 酞菁的应用 | 第29-33页 |
参考文献 | 第33-36页 |
第二章 烷氧基取代酞菁的合成 | 第36-44页 |
§2.1 烷氧基取代邻苯二甲腈的合成 | 第36-38页 |
§2.2 烷氧基取代酞菁的合成 | 第38-43页 |
参考文献 | 第43-44页 |
第三章 晶体结构测定 | 第44-82页 |
§3.1 晶体学参数与衍射数据的收集条件 | 第44-48页 |
§3.2 结构的描述 | 第48-78页 |
§3.3 结果讨论 | 第78-81页 |
参考文献 | 第81-82页 |
第四章 波谱与性质表征 | 第82-87页 |
§4.1 红外吸收光谱 | 第82页 |
§4.2 溶液的紫外可见吸收光谱 | 第82页 |
§4.3 固体的紫外可见漫反射光谱 | 第82-84页 |
§4.4 ~1HNMR谱 | 第84页 |
§4.5 热重和差热分析 | 第84页 |
§4.6 高效液相色谱分析 | 第84-85页 |
§4.7 溶解度 | 第85页 |
§4.8 小结 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-87页 |
第五章 酞菁类CD-R记录介质的研发 | 第87-92页 |
§5.1 主要技术指标 | 第87-88页 |
§5.2 取代基对上述性能指标的影响 | 第88-89页 |
§5.3 新型酞菁类CD-R记录介质的研发 | 第89-91页 |
参考文献 | 第91-92页 |
第六章 总结与展望 | 第92-94页 |
附录A 晶体的原子坐标和热参数 | 第94-119页 |
附录B 波谱和性质表征谱图 | 第119-142页 |
B1 红外吸收光谱图 | 第119-124页 |
B2 溶液的紫外可见吸收光谱图 | 第124-131页 |
B3 固体的紫外可见漫反射光谱图 | 第131-134页 |
B4 核磁共振谱图 | 第134-138页 |
B5 热重和差示扫描量热分析 | 第138-142页 |
附录C 在读期间发表的论文、成果鉴定和学术会议报告 | 第142-144页 |
致谢 | 第144页 |